文档介绍：该【0.5微米掩模制造曝光及显影工艺改进的中期报告 】是由【niuww】上传分享，文档一共【2】页，该文档可以免费在线阅读，需要了解更多关于【0.5微米掩模制造曝光及显影工艺改进的中期报告 】的内容，可以使用淘豆网的站内搜索功能，选择自己适合的文档，以下文字是截取该文章内的部分文字，如需要获得完整电子版，请下载此文档到您的设备，方便您编辑和打印。,通过改进工艺提高掩模的制造质量和效率。目前我们已完成了一部分实验和数据分析。以下是我们的中期报告:,我们设计了以下实验:1)曝光能量的影响:制备一批掩模,在曝光时间一定的情况下,改变曝光能量,分别为80mJ/cm2、100mJ/cm2、120mJ/cm2、140mJ/cm2、160mJ/cm2。然后测量掩模的线宽、线间距和深度。2)曝光时间的影响:制备一批掩模,在曝光能量一定的情况下,改变曝光时间,分别为2s、3s、4s、5s、6s。然后测量掩模的线宽、线间距和深度。3)显影时间的影响:制备一批掩模,在曝光能量和时间均定为120mJ/cm2和4s的情况下,改变显影时间,分别为30s、45s、60s、75s、90s。然后测量掩模的线宽、线间距和深度。)曝光能量的影响:当曝光能量为100mJ/cm2时,掩模的线宽最小,线间距最大,深度最浅;当曝光能量为120mJ/cm2时,掩模的线宽和线间距的误差最小,深度最合适;当曝光能量大于140mJ/cm2时,掩模的线宽、线间距和深度均受到较大影响。2)曝光时间的影响:当曝光时间为4s时,掩模的线宽、线间距和深度的误差均最小;当曝光时间小于3s或大于5s时,掩模的线宽、线间距和深度均受到影响。3)显影时间的影响:当显影时间为60s时,掩模的线宽、线间距和深度的误差均最小;当显影时间小于45s或大于75s时,掩模的线宽、线间距和深度均受到较大影响。,我们得出了以下结论:1)曝光能量对掩模的线宽、线间距和深度有较大的影响,最佳曝光能量为120mJ/cm2。2)曝光时间对掩模的线宽、线间距和深度也有较大的影响,最佳曝光时间为4s。3)显影时间对掩模的线宽、线间距和深度也有一定的影响,最佳显影时间为60s。下一步,我们将继续优化曝光和显影工艺,进一步提高掩模的制造质量和效率。