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SU8胶紫外光刻理论与实验研究的中期报告.docx

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上传人:niuwk 2024/3/27 文件大小:10 KB

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文档介绍:该【SU8胶紫外光刻理论与实验研究的中期报告 】是由【niuwk】上传分享,文档一共【1】页,该文档可以免费在线阅读,需要了解更多关于【SU8胶紫外光刻理论与实验研究的中期报告 】的内容,可以使用淘豆网的站内搜索功能,选择自己适合的文档,以下文字是截取该文章内的部分文字,如需要获得完整电子版,请下载此文档到您的设备,方便您编辑和打印。SU8胶紫外光刻理论与实验研究的中期报告本文主要介绍了SU8胶紫外光刻的基本原理和在实验中的应用情况。SU8胶是一种高性能负光刻胶,其主要成分是epoxy树脂和光敏剂。在紫外光的照射下,光敏剂部分分解,产生自由基,引起胶层硬化,从而形成所需的图形结构。在实验中,我们使用了SU8-。首先,将SU8胶均匀涂覆在硅基片上,并进行烘烤处理,使其形成均匀的胶层。然后,将掩模放置在胶层表面上,并通过紫外光曝光来引发胶层的硬化反应。最后,使用化学溶剂将未光刻的胶层去除,从而形成所需的图形结构。我们对SU8胶的紫外光刻性能进行了实验研究。通过改变光刻参数(如光敏剂含量、曝光能量和曝光时间等),我们研究了SU8胶的曝光响应特性和分辨率。我们发现,SU8胶的最优曝光能量和时间为500mJ/cm2和15s,对应的最小结构分辨率为1μm。此外,我们还研究了SU8胶的光学特性和机械强度等性能,并对其在微纳加工中的应用进行了探讨。总的来说,SU8胶紫外光刻技术是一种优秀的微纳加工工艺,具有结构分辨率高、成本低、工艺简单等优点。我们希望通过进一步研究和探索,为其在微纳加工领域中的应用提供更多的可能性。