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基于碳化硅生长高质量石墨烯及其光催化性能研究的开题报告.docx

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基于碳化硅生长高质量石墨烯及其光催化性能研究的开题报告.docx

上传人:niuww 2024/4/27 文件大小:11 KB

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文档介绍:该【基于碳化硅生长高质量石墨烯及其光催化性能研究的开题报告 】是由【niuww】上传分享,文档一共【2】页,该文档可以免费在线阅读,需要了解更多关于【基于碳化硅生长高质量石墨烯及其光催化性能研究的开题报告 】的内容,可以使用淘豆网的站内搜索功能,选择自己适合的文档,以下文字是截取该文章内的部分文字,如需要获得完整电子版,请下载此文档到您的设备,方便您编辑和打印。基于碳化硅生长高质量石墨烯及其光催化性能研究的开题报告一、研究背景与意义石墨烯作为一种重要的二维材料,具有优异的电学、光学、机械、热学等性能,在电子器件、传感器、催化剂、能源存储和转换等领域具有广泛的应用前景。当前,石墨烯的制备方法主要包括机械剥离法、化学气相沉积法、化学还原法、物理气相沉积法等,其中,碳化硅模板法具有制备高质量石墨烯的优势。此外,基于光催化的石墨烯应用也备受关注,石墨烯光催化可以通过提高吸光性、电子传输和电荷分离等方面来提高其光催化效率。因此,探究碳化硅模板制备高质量石墨烯以及其光催化性能对于促进石墨烯在各领域中的应用具有重要的意义。二、:通过碳化硅模板法制备高质量石墨烯,主要包括碳源的制备、制备碳化硅模板、制备单晶硅衬底、化学气相沉积、退火处理等步骤。:使用扫描电子显微镜、透射电子显微镜、拉曼光谱、X射线衍射等表征手段对石墨烯的形貌、结构以及晶体质量等进行分析。:通过紫外可见吸收光谱、荧光光谱、稳态或动态光电位、电化学阻抗谱等手段研究石墨烯的光催化性能。三、,并对其进行全面表征。。,优化石墨烯的光催化性能。四、(2周)。、单晶硅衬底(4周)。,优化制备工艺(6周)。,如SEM、TEM、Raman、XRD等(8周)。(4周)。、讨论、修改(6周)。五、研究团队本研究由团队进行,团队成员包括实验室导师及3名本科生和2位硕士研究生,每个成员负责相应的任务。团队成员将在一起探讨项目的细节和问题,共同协作,保证项目能够取得实质性进展。六、,宋倩倩,[J].物理化学学报,2017,33(5):869-,ZhuY,[J].JournalofColloidandInterfaceScience,2016,461:39-,ZhangQ,SunY,-lightphotocatalyticactivityofgraphene/sulfur-posites[J].AppliedSurfaceScience,2018,427:724-,LiH,ChenM,-situhydrothermalgrowthofAgnanoparticles[J].JournalofColloidandInterfaceScience,2019,545:197-205.