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BRAND PLANING
非晶硅薄膜电池生产
超声波玻璃清洗机（重要设备）（镀膜前清洗）
工艺：洗的是膜表面上的污垢和灰尘及一种高分子材料
要求：导电玻璃,不在生产线上用，速度越快越好；离线使用，单面清洗；导电玻璃最初清洗的材料是一种高分子材料（类似塑料），清洗液可能是水，也可能是四氢呋喃THF。
激光划线机1（重要设备）
工艺：这一步主要是划刻 氧化锡，使用的1064纳米波长的红外激光器
要求：刻蚀速度、激光源寿命、操作系统是否简单且方便操作、Dead area无用区域大小（三条刻膜线总线宽）、划刻线宽、系统产能（MW/年）
预热炉
工艺： 加热导电玻璃
PECVD真空沉积系统，即等离子体增强化学沉积(主要设备)
工艺： 非晶硅p-i-n镀膜
要求：电池转换率>6%、生产效率、玻璃基片型号资料、价格
01
冷却炉
02
工艺： 对导电玻璃降温
激光划线机2（重要设备）
工艺：这一步主要是划刻非晶硅a-Si，使用的532纳米波长的绿激光器
要求：刻蚀速度、激光源寿命、操作系统是否简单且方便操作、Dead area无用区域大小（三条刻膜线总线宽）、划刻线宽、系统产能（MW/年）
磁控溅射系统（主要设备）
工艺：主要是透明氧化物TCO镀膜，金属（银或铝）背电极镀膜
激光划线机3（重要设备）
要求：刻蚀速度、激光源寿命、操作系统是否简单且方便操作、Dead area无用区域大小（三条刻膜线总线宽）、划刻线宽、系统产能（MW/年）
工艺：这一步主要是划刻 铝或者银以及氧化锌膜，使用的532纳米波长的绿激光器