文档介绍：为此,明纹和暗纹出现的条件为:
明纹
暗纹
实际应用中,通常使光线 垂直入射膜面,
即,光程差公式简化为:
等厚干涉条纹
:为因为半波损失而生产的附加光程差。
当薄膜上、下表面的反射光都存在或都不存在半波损失时,其光程差为:
当反射光之一存在半波损失时,其光程差应加上附加光程/2 ,即:
等厚干涉条纹
劈尖:薄膜的两个表面是平面,其间有很小夹角。
2. 劈尖膜
劈尖干涉光程差的计算
=2ne
n
·
A
反射光2
反射光1
入射光(单色平行光垂直入射)
e
空气介质
+/2
当光从光疏介质入射到光密介质的表面反射时
劈尖膜
B
劈尖明暗条纹的判据
当光程差等于波长的整数倍时,出现干涉加强的现象,形成明条纹;当光程差等于波长的奇数倍时,出现干涉减弱的现象,形成暗条纹。
明纹
暗纹
劈尖膜
……
劈尖干涉条纹的特征
(1)明、暗条纹处的膜厚:
一系列明暗相间的、平行于棱边的平直条纹。
劈尖膜
劈尖干涉条纹的特征
(2)相邻明纹(或暗纹)所对应的薄膜厚度之差
e = ek+1-ek
= (2k+1)/4n - (2k-1)/4n
= /2n
相邻明纹(或暗纹)所对应的薄膜厚度之差相同。
e k
ek+1
e
明纹
暗纹
劈尖膜
劈尖干涉条纹的特征
(3)两相邻明纹(或暗纹)的间距
结论:
越小,条纹越疏;反之则密。如过大,条纹将密集到难以分辨,就观察不到干涉条纹了。
L= e/sin
≈e/
≈/2n
L
e
明纹
暗纹
L
e
劈尖膜
劈尖干涉条纹的特征
劈尖干涉条纹是一系列明暗相间的、等间距分布的、平行于棱边的平直条纹。
劈尖干涉条纹
劈尖膜
例1 在半导体元件生产中,为了测定硅片上SiO2薄膜的厚度,将该膜的一端腐蚀成劈尖状,已知SiO2 的折射率n =,用波长=5893埃的钠光照射后,观察到劈尖上出现9条暗纹,且第9条在劈尖斜坡上端点M处,。试求SiO2薄膜的厚度。
Si
SiO2
O
M
解:由暗纹条件
e = (2k+1)/4n
= 2ne
= (2k+1)/2 (k=0,1,2…)
知,第9条暗纹对应于k=8,代入上式得
= (m)
m。
劈尖膜