文档介绍：设备简介:主要用于单、多晶硅太阳能电池片生产,扩散前的绒面腐蚀和清洗。2)工艺流程:上料→HF+HNO3腐蚀→QDR+氮气鼓泡+喷淋→KOH腐蚀→QDR+氮气鼓泡+喷淋→HCl腐蚀→QDR+氮气鼓泡+喷淋→下料→离心机甩干(离线) 3)设备采用龙门式机械手方式移动,其工艺时间可以自行调节,酸碱槽具有自动补液装置,可实现无间断生产。能显示温度曲线、浓度变化曲线,及各个工位的工作状态。具有设备报警说明,报警历史查询功能。对清洗用纯水有电阻率监测装置,能存储10个以上工艺方案;4)标准工艺下产量:125mm×125mm、156mm×156mm、210mm×210mm的硅片,适用于投产厚度为160±30~200±30微米的硅片,硅片产能不低于1200片/小时。
平板式硅片清洗机
设备简介:清洗对象是2~8英寸的硅研磨片。设备整体采用进口PLC控制,通过设定工作节拍传送篮具依次经过各个工序,由上料开始到下料均自动完成。设备工作节拍,各项参数设定采用触摸屏完成。设备整体为密闭结构,具有排风装置。独有的机械手设计使抓取定位更准确。注重人性化设计,可根据用户要求定制
LCD清洗腐蚀设备
.用于LCD清洗腐蚀本机设有内外两个清洗槽,内槽为酸洗槽,外槽为水洗槽,内外槽均装在隔离槽内,与底部和周围隔离。隔离槽底部倾斜,最低处设有排水管,隔离槽后设有排气装置。
半导体硅片去膜/去胶/去蜡清洗机
概述:本设备可用于半导体工艺中对2″~8″硅片进行去膜处理,该产品技术先进、一致性强,适用于规模生产。。,每排7槽,各设一套机械手,两排可独立同时完成相应的工序。,其余工艺动作均可自动完成。:50片/批(2花篮,25片/花篮)。:100级。:Tm ax≤
半导体器件设备-硅片片盒清洗机
设备由五大部分组成:清洗槽部分、伺服系统及机械臂部分、层流净化系统、电气控制系统、机架及整机。、去离子水槽、酸槽或碱槽等组成。,包括气动阀,PFA管道、全***循环系统,保证工作介质(酸、碱)的洁净度,避免杂质析出。
,机械手在槽间的转换由两套伺服系统控制,可存储多条工艺时序,方便使用。
半导体器件设备-光刻用洗胶清洗柜
德国NPP板热弯/焊接组合加工;一、槽体结构:该槽体实现腐蚀或后残留在片子上的化学液及污染颗粒的冲洗祛除功能。它由安装在槽体底部的快排阀、DI注入孔(包括氮气鼓泡)及顶部左右两侧的DI喷嘴实现槽体的快速注入与排放。二、工艺控制:快排冲洗槽(QDR)的工作过程由独立K200型专用控制器保证。它包括工艺时间、冲洗次数设置、工作完成提示以及过程中的故障报警、状态提示等功能
太阳能光伏玻璃清洗设备
德国10mm(5MM)NPP板热弯/焊接组合加工;双篮/单篮二、槽体结构:该槽体实现腐蚀或后残留在片子上的化学液及污染颗粒的冲洗祛除功能。它由安装在槽体底部的快排阀、DI注入孔(包括氮气鼓泡)及顶部左右两侧的DI喷嘴实现槽体的快速注入与排放。三、工艺控制:快排冲洗槽(QDR)的工作过程由独立K200型专用控制器保证。它包括工艺时间、冲洗次数设置、工作完成提示以及过程中的故障报警、状态提示等功能。
单槽石英管清洗机石英钟罩清洗设备:适用于1″~8″石英管酸泡本设备为柜体式,整体采用德国NPP ::上料槽1→清洗液1浸泡→清洗石英管内外表面→上料槽2→清洗液2浸泡→清洗石英管内外表面→:槽体材质:德国进口聚丙烯(NPP)骨架材质:不锈耐酸钢(1cr18NI9TI)管道材质:上水管件PVDF:德国进口聚偏二***乙烯下水材质:德国PP柜体窗板:德国进口透明聚***乙烯(PVC)柜体材质:德国进口聚丙烯(PP):⑴柜体式,前面带有透明门窗。⑵
槽下设有接漏盘,漏盘装有漏液报警装置。
供应半自动硅片腐蚀机 
德国10mm(5MM)NPP板热弯/焊接组合加工;清洗对象:2寸硅片双篮/4寸单篮一、槽体结构:该槽体实现腐蚀或后残留在片子上的化学液及污染颗粒的冲洗祛除功能。它由安装在槽体底部的快排阀、DI注入孔(包括氮气鼓泡)及顶部左右两侧的DI喷嘴实现槽体的快速注入与排放。二、工艺控制:快排冲洗槽(QDR)的工作过程由独立K200型专用控制器保证。它包括工艺时间、冲洗次数设置、工作完成提示以及过程中的故障报警、状态提示等功能。有需求此方面设备的朋友,欢迎来电咨询
长期供应CSE--半导体清洗设备-***化镓清洗设备主要功能部件有:箱体部分、骨架、酸泡槽、DI水清洗槽、超声/兆声槽、石英管滚动系统、喷淋系统、机械