文档介绍：�万方数据
大气和低压等离子喷涂氧化铝涂层���������邓畅光,邓春明,刘敏,朱晖朝,周克崧�阒萦猩ń鹗粞芯吭翰牧媳砻嫠��阒����等离子喷涂是以非转移的等离子弧为热源,喷涂材料以粉末的形式送入焰流中心而获得涂层的一种方��[1]������������������������10000K������������解或直接升华的前提下可以熔融任何一种材料,因此等离子喷涂得到最广泛的应用。氧化物陶瓷具有熔点高的特点,采用等离子喷涂制备氧化物涂层是非常适合的,目前已经取得了较大的成功,广泛作为耐磨、耐蚀和绝缘涂层。这些涂层主要包括氧化铝、氧化铬、氧������������������������������[2-4]��������������离子喷涂的陶瓷涂层致密度低,一般在�%左右,需进行封孔处理以提高其性能,但封孔不能根本提高涂层的性能,需采用其他工艺以获得质量优良的氧化物低压等离子喷涂��LPPS)������������������(Air的基础上发展起来的,由于是在低压氩气惰性气体保护下,该工艺具有粒子速度高,涂层不易受污染等特����������������������������������[1]��LPPS��工艺特点决定了采用该工艺可以获得结合强度高、致密的涂层。近来人们提出了采用��制备高致密氧化物陶瓷涂层,以适应环境恶劣条件下对高质量陶瓷������������]��氧化铝涂层在电子、半导体行业中有着广泛的应用���H缭诎氲继迤骷�凶魑D虲�#琒�#琌。,�。等离子溅射的防护层和作为绝缘涂层。前者对涂层的致密度有较高的要求,因为如果涂层致密度不高,则在等离子溅射下形成的灰尘有可能沉积在半导体上,从而使整个半导体成为废品。一般认为,要求所获得氧������������������2��������������������������质量产生明显的影响。后者虽然通过提高厚度增加其耐压性能,但涂层中的孔隙容易吸附环境中的湿气,使耐压性能大幅度降低。因此获得高致密度的氧化铝涂层对拓宽其应用有非常重要意义的。��������������APS��LPPS��������������化铝涂层,对两种制备工艺获得涂层的相、结构等特性进行对比研究,并对工艺一性能之间的关系进行分析。��琙�Metals��Guangzhou���,�����������������(APs)����������������(LPPS)������������������������������������������������������������别采用��蚐�对两种涂层的相和结构进行了研究,对涂层的显微硬度和断裂韧性进行了评价,并对涂层制备工艺和性能的关系进行了分析。结果表明:低压等离子喷涂制备的高纯氧化铝涂层韧性和致密性明显优于常压喷涂氧化铝����������������������(APS)����������������(LPPS)������������涂层‘�。�����������2008��5�����猤��,�������琇�Hui��chao���—������������������,�����涂层。������������TB742������������A����������1001��4381(2008)05��0048-0