文档介绍：摘要
椭偏测量的基本原理是起偏器产生的线偏振光经取向一定的1/4波片后成为特殊的椭圆偏振光,把它投射到待测样品表面反射出来的将是线偏振光。根据偏振光在反射前后的状态变化(包括振幅和相位的变化),便可测定样品表面的许多光学特性。
关键词:椭偏法;Ni-Cu膜;真空镀膜
ABSTRACT
The measurement of the basic principle is a polarization of light through the orientation of the 1/ 4 after wave of a particular sphere of the polarization of light ,and put it on to the surface of the test samples of reflections line will be polarization. According to the polarization of light at the back of the state changes(including amplitude and phase change), it can determine the samples.
Keywords:Partial method;Membrane of Ni-Cu;Vacuum coating
目录
1 引言………………………………………………………………………………5
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椭偏法……………………………………………………………………...8
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2 实验……………………………………………………………………..………9
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3 小结………………………………………………………………………..…..17
参考文献………………………………………………………………………………………. 18
致谢……………………………………………………………………………….19
1 引言
早在一个多世纪以前,人们从辉光放电管壁上就观察到了溅射的金属薄膜。根据这一现象,后来逐步发展起真空镀膜的方法。真空镀膜技术,在现代工业和科学方面有着广泛的应用。例如,光学仪器上的各种反射膜,增透膜,滤光片等,都是真空镀膜的产物;电子器件中用的薄膜电阻,特别是平面型晶体管和超大规模集成电路也有赖于薄膜技术来制造;硬质保护膜可使各种经常磨损的器件表面硬化,大大增强耐磨程度;磁性薄膜具有记忆功能,在电子计算机中用作存储记录介质而占有重要地位……。因此,真空镀膜技术目前正在向各个重要的科学领域中延伸,引起了人们广泛的注意[1]。
真空镀膜中常用的方法是真空蒸发和离子溅射。真空蒸发镀膜是在一定真空度下,把要蒸发的材料加热到一定温度,使大量分子或原子蒸发和升华,并直接淀积在基片上形成薄膜。离子溅射镀膜是利用气体放电产生的正离子在电场的作用下高速轰击作为阴极的靶,使靶材中的分子或原子逸出而淀积到被镀工件的表面,形成所需要的薄膜。
真空蒸发镀膜