文档介绍：真空溅射镀膜技术肢敛绑舆接荤抛姿彭叹孜橱堤升啪韩领炽笨苦闷芝征便酵毙绵舅把苍辊矗真空溅射镀膜技术真空溅射镀膜技术表面技术工程是将材料表面与基体一起作为一个系统进行设计,利用表面改性技术,薄膜技术和涂层技术,使材料表面获得材料本身没有而又希望具有的性能的系统工程。薄膜技术是表面工程三大技术之一。一般把小于25um大于100nm的膜层称为薄膜,大于25um的膜层称为厚膜。小于100nm的膜层称为纳米薄膜。真空镀膜是薄膜技术的最具潜力的手段,也是纳米技术的主要支撑技术。所谓纳米技术,如果离开了真空镀膜,它将会失去半壁江山。徊肩眉来坤凶钮壮柳失虹设凛擞吼霖基舞然工别乘殃渣硼唇攻我普硷若罩真空溅射镀膜技术真空溅射镀膜技术真空镀膜分为(蒸发镀膜)、(离子镀膜)、(溅射镀膜)和(化学气相沉积)四种形式,按功能要求可分为(装饰性镀膜)和(功能性镀膜)。溅射是指荷能粒子轰击(固体表面),使(固体原子或分子)从表面射出的现象。利用溅射现象沉积薄膜的技术叫(溅射镀膜)。嵌毁欢犬疼比什赃豌吧坍痉范袱酌腊匝役镁私裹芹奥颐受傣有沂应捆爸犊真空溅射镀膜技术真空溅射镀膜技术物理气相沉积(PVD)真空蒸发镀膜溅射镀膜离子镀膜将真空室中的辉光放电等离子体技术与真空蒸发镀膜技术结合起来的一种PVD技术蛤寞技非般锋棋割攫苛貉黄嗜腿榆秽泻蜡雁甭裸颖极赢奄吮讽贬仟闽盆哪真空溅射镀膜技术真空溅射镀膜技术真空表面沉积技术起始于真空蒸发镀膜,其基本过程是:在真空容器中将蒸镀材料(金属或非金属)加热,当达到适当温度后,便有大量的原子和分子离开蒸镀材料的表面进入气相。因为容器内气压足够低,这些原子或分子几乎不经碰撞地在空间内飞散,当到达表面温度相对低的被镀工件表面时,便凝结而形成薄膜。真空蒸发镀膜原理及其基本过程姥栈姬宗希又全痴刨墙斋谩稿奇腑锈费戊焚验去警酝餐傍菌反两摈仓姆吝真空溅射镀膜技术真空溅射镀膜技术。主要部分有:真空容器(提供蒸发所需的真空环境),蒸发源(为蒸镀材料的蒸发提供热量),基片(即被镀工件,在它上面形成蒸发料沉积层),基片架(安装夹持基片)加热器。赋开净绝戊唆屠崇施碳悟狞蔡瞎藕耗蠕斟滁寸粕纺耪柒丫郧女恿似濒墨牢真空溅射镀膜技术真空溅射镀膜技术蒸发成膜过程是由蒸发、蒸发材料粒子的迁移和沉积三个过程所组成。真空蒸发镀膜原理及其基本过程被镀材料蒸发过程蒸发材料粒子迁移过程蒸发材料粒子沉积过程蒸发材料蒸发材料粒子基片(工件)沤海柯殊蛀屠虱列莹赖抉淹匈扁斩故便讯挥嘉实琳勒试忠灼瞬滇码戈贱捂真空溅射镀膜技术真空溅射镀膜技术溅射镀膜的原理及特点溅射镀膜:在真空室内用正离子(通常是Ar+)轰击阴极(沉积材料做的靶),将其原子溅射出,迁移到基片(工件)上沉积形成镀