文档介绍：“RO+EDI+抛光混床”超纯水设备工艺详解
超纯水是目前水质纯度最高的水,电阻率可以达到18MΩ*cm以上,一般用于集成电路、半导体原材料清洗、光刻掩模版制备和光电产业等。采用“RO+EDI+抛光混床”三大高端设备联用,制备超纯水,出水水质纯度极高,*cm。
“RO+EDI+抛光混床”超纯水设备工艺流程
在前处理阶段, “RO+EDI+抛光混床”工艺与传统超纯水处理工艺基本相同。原水经过严格的预处理之后,进入RO反渗透系统,出水立刻送至EDI装置中,此时出水已经达到一般工业用超纯水要求,进而再经过抛光混床对出水进行更深层次的处理,保证出水无任何杂质。
“RO+EDI+抛光混床”超纯水设备特点
一般行业用超纯水只要求电阻率在18MΩ*cm左右,更精密、更高端的行业例如航天、电子、甚至高端实验室,*cm,才能得到最佳的效果。“RO+EDI+抛光混床”超纯水设备采用全自动微电脑控制,出水可以完全满足尖端科技的苛刻要求,水质检测结果,杂质含量为零。
“RO+EDI+抛光混床”超纯水设备的出水效果已经得到业内人士的认可,应用领域也在逐渐扩大。近些年我国对各行业用水的水质要求越来越严格,检测的项目越来越详细,控制也越来越严格,“RO+EDI+抛光混床”超纯水设备的应用前景广阔,也是未来超纯水设备的发展趋势。