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晶体硅太阳电池扩散气氛场均匀性研究.pdf

上传人:经管专家 2011/10/21 文件大小:0 KB

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晶体硅太阳电池扩散气氛场均匀性研究.pdf

文档介绍

文档介绍:万方数据
晶体硅太阳电池扩散气氛场均匀性研究引言┥⒕;;运用同时也极大地促进了太阳电池的商业化发展㈣。在过去年缱涌萍即笱У缱庸こ萄г骸K拇ǔ啥摘要:为降低晶体硅太阳电池的制造成本。。该研究方法可改善太阳电池电性能并对产业化生产起指导作用。键词:硅太阳电池;扩散;均匀性;气氛场;量产文献标识码:文件编号:—甪鉶晶体硅太阳电池能够取得高效转换效率的原因主要是基于表面钝化、湿氧氧化等技术的应用【。%的速度快速增长,%旧。除产业化运用新技术外。太阳电池制作中工艺优化也非常重要的。太阳电池产业化所面临的主要问题之一是如何在保证电池高转换效率前提下提高产能。扩散制作崾蔷体硅太阳电池的核心,也是电池质量好坏的关键之一。对于扩散颍畲笪侍庠谟谌绾伪U侠┥⒌木刃浴@┥⒕刃院的电池。其后续詹问煽匦愿撸梢越虾玫乇Vさ绯氐缧能和参数的稳定性。扩散均匀性在高效率低成本电池产业推广方面主要有两个方向:一个是太阳电池甆结新结构设计电池嘲等;另一个是由于其他工序或材料新技术的应用需要寻求相应的扩散工艺路线。比如冶金硅用于太阳电池、公司的拖钠展镜腷实取U庑┒际抢┥⒍跃刃砸G笮碌难芯糠较颉晶体硅产业化扩散制作甆结所采用的扩散炉主要为管式电阻加热方式毡檠∮肒加热炉丝霸叵低主要有悬臂式/和软着陆虺芐街帧9诶┥⒙孕凼轿V鳎庖許收稿日期:—一稿件编号:为主。相对于配置悬臂装载机构的扩散炉,嚼┥⒙其炉口密封性更易保障。⒐芡猓庑设计上的优点减少扩散均匀性的影响因素。在工艺生产中能更好地保证扩散的均匀性;。这也是扩散炉逐步取代悬臂装载式扩散炉的原因所在。早期的工艺路线主要包括开管扩散与闭管扩散,。对悬臂管式扩散炉中影响扩散均匀性的气氛场因素进行相关的研究。以达到优化工艺参数、降低生产成本的目的。。在大规模生产中,补偿方法主要通过调整工艺反应时间、气体流量和反应温度三者实现。、均流板和石英舟是固定位置使用。影响扩散均匀性因素除相关物件固定放置位置外,工艺气体总流量、废气排放流量与炉内压强的平衡设置。,因这些因素相互关联影响,使得生产中的沼呕喽岳眩绕涫瞧粘∫蛩馗芽刂疲也是该研究领域至今未建立扩散均匀性气氛场棠P偷难点。根据气氛场因素的特点,作出扩散气氛场结构示意图作者简介:何堂贵,男,四川青神人,硕士研究生。助理工程师。研究方向:半导体电源器件舻绯工艺。..关中图分类号:,:瑃甌簊籱猵陀..
万方数据
≥削芦哪圆训:事蒿保至荟圈勰石薹舟炉尾均流板繮磊;痜《电子设计工程甑期/排;如图尽M中,箭头方向为气体示意流向;废气排放管套管处于同一水平面上,工艺废

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