文档介绍：去除磷硅玻璃
邵爱军
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在扩散过程中发生如下反应:
POCl3分解产生的P2O5淀积在硅片表面, P2O5与Si反应生成SiO2和磷原子:
这样就在硅片表面形成一层含有磷元素的SiO2,称之为磷硅玻璃。
什么是磷硅玻璃?
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磷硅玻璃的去除
氢***酸是无色透明的液体,具有较弱的酸性、易挥发性和很强的腐蚀性。但氢***酸具有一个很重要的特性是它能够溶解二氧化硅,因此不能装在玻璃瓶中。
在半导体生产的清洗和腐蚀工艺中,主要就利用氢***酸的这一特性来除去硅片表面的二氧化硅层。
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氢***酸能够溶解二氧化硅是因为氢***酸能与二氧化硅作用生成易挥发的四***化硅气体。
若氢***酸过量,反应生成的四***化硅会进一步与氢***酸反应生成可溶性的络和物六***硅酸。
总反应式为:
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去除磷硅玻璃工艺
清洗液配制
装片
开机
投片清洗
甩干
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清洗液配制
将各槽中破损硅片等杂质清除,用去离子水将各槽壁冲洗干净。
1号槽中注入一半深度的去离子水,加入13瓶商品氢***酸,再注入去离子水至溢流口下边缘。
向2号槽中注满去离子水。
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装片
经等离子刻蚀过的硅片,经检验合格后插入承片盒。
注意,经过磷扩散处理的表面,面向承片盒的背面放置,严禁装反。每盒25片,扣好压条,装入包塑不锈钢提篮。
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7
开机
根据《磷腐槽操作规程》作业指导书打开电源、压缩空气、氮气和去离子水。
设定1槽时间1分钟,2槽时间6分钟。
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投片清洗
按照《磷腐槽操作规程》作业指导书的规定确定设备自动运行的前提条件都得到满足。
将装满硅片的包塑不锈钢提篮推至0号位,按下控制板上“自动运行”按钮,设备即开始自动运行。
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9
甩干
打开离心干燥机的电源、压缩空气、氮气和去离子水。
根据下表所列工艺参数设置甩干机工作条件。
将装有硅片的承片盒放入离心干燥机,按照设备操作规程进行离心干燥。
循环1
循环2
温度
℃
N2压力
(MPa)
空气压力
(MPa)
Speed
Time
Speed
Time
200RPM
1分钟
550RPM
8分钟
120℃
~
~
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