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掩模板功能用途书面书.doc

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掩模板功能用途书面书.doc

上传人:rjmy2261 2016/1/12 文件大小:0 KB

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文档介绍

文档介绍:掩模板功能用途说明书中文名称:掩模板英文名称:PhotoMask原产地:韩国照片:::所谓液晶光学掩模板(PhotoMask)就是先将玻璃加工成所需尺寸的形状,再对玻璃进行粗磨、精修、磨平及抛光,然后利用激光在石英玻璃基板上的金属铬层和光阻层上的加工所形成图纸的基板。:Photomask(掩模板),是生产TFT(薄膜晶体管)、CF(彩色滤光片)必要的光学组件。它是连接设计与制程之间的关键组件,大尺寸掩模板的制作与薄膜晶体管(ThinFilmTransistor,TFT)、彩色滤光片(ColorFilter,CF)等,有着十分密切的关系。:液晶显示板内的TFT((薄膜晶体管)、CF(彩色滤光片):技术人员通过曝光机把基板上面的图案转印到液晶面板上。::所有显示器(Display)的显示部位,都是以掩模板为原版、透过写真平版印刷术(利用光的技术,将精密的图案转印至玻璃基版上)而制成的。面板厂或彩色滤光片厂,以曝光方式使用掩模板进行生产所有与显示器(Display)相关的产品。:配合曝光机,将掩模板上的图形转移到面板上。:CAD数据基板?显影?蚀刻?剥离/清洗检测/修复装保护膜质量检验激光描画图案结构成形保护膜掩模板制作掩模板制作光阻Cr膜基板