文档介绍：镁合金和铝合金结构件镭雕技术规范 规范制定目的平板的铝合金、压铸镁合金件化成处理(又称皮膜)或阳极后为了保证天线及接地位置导通,需要对导通区域进行镭雕处理,去除表面皮膜或阳极层。为了防止镭雕区域导电不良(氧化或残留),特制定本技术规范。 、镁、铝合金化成子篮(装产品的支架或篮子)及子篮补焊材料要求:材料型号选SUS316(不得使用SUS304,其在经过酸洗槽液容易污染槽液,会加剧镭雕区的氧化现象);2、化成处理水质要求:化成处理采用纯水,导电率小于 50个单位。、化成处理后工件外观要求: 镁合金化成面为浅灰色, 颜色均匀,不允许出现发黄、白点等异色现像;铝合金化成面为金属原色,不允许出现发黄、白点。2、化成处理后工件(含镁合金和铝合金)表面阻抗要求:化成件表面阻抗要求铝合金小于1欧姆,镁合金小于2欧姆。3、化成处理后工件(压铸铝合金)抗盐雾要求:按照 JIS/Z2371-2000 盐雾标准,达到8级或以上水平。 镭雕工艺规范工艺规范压铸镁合金铝合金镭雕机额定功率大于或等于30W功率以镭雕机额定功率大于或等于上,30W功率以上,线状镭雕,镭线状镭雕,镭雕四次。雕两次。镭雕方式及功率第一步:0°,90°各一次,功率>=25W45°,135°各一次,功第二步:45°,135°各一次,额定功率率>=25W的30%镭雕线间距<=<=<=<=<=1500mm/s<=1500mm/ 、镭雕电阻检测规范1) 镭雕面表面阻抗要求:铝合金任意两点满足阻抗小于 ,压铸镁合金任意两点满足阻抗小于 1欧姆。最终成品出货前全检,具体的镭雕阻抗检测位由天线部门提供。,探头直径2mm,特殊情况不允许小于1mm,探头头部要求为平头,探针压力 <=2N。2、镭雕盐雾检测规范(该规范只针对压铸铝合金,镁合金单独讨论)镭雕面抗盐雾要求:按照JIS/Z2371-2000标准,达到8级或以上水平;经过盐雾实验后,铝合金任意两点镭雕位满足阻抗小于。2) 盐雾测试频率要求:供应商每月做一次盐雾测试/编码(8H盐雾),报告回IQC。新产品(所有压铸件供应商均需执行)导入前必须做盐雾测试(SV1/SV2/SV3各阶段必须通过测试)并提供报告。盐雾测试盐水溶液配制方法:溶液的质量百分比浓度为5%±1%;用专用桶()装入19kg蒸馏水,用电子称称完总的重量减去桶重得出蒸馏水的重量。然后将纯度大于 95%的NaCl1kg往桶里倒,直至总重量为20Kg,盐雾浓度为5%的NaCl溶液,将混合溶液充分搅匀,让NaCl晶体与蒸馏水充分溶解;然后用注射器抽出少量的稀NaOH溶液放入盐溶液中反复搅匀后,然后将PH计探头伸到盐水中检测盐水的PH值,(,则需要注入稀HCl进行调节PH,),~。PH计使用前都需要校准,校准方法参考附录;d) 最