文档介绍：黄建良,汪建华(,等离子体化学与新材料省重点实验室,湖北武汉,430073;,等离子体物理研究所,安徽合肥,230031)摘要:为了提高微波等离子体化学气相沉积CVD金刚石膜的速率,通过对微波源的磁控管、装置的冷却系统及真空密封技术三方面的改进,、,装置能够长期稳定地运行;、%、M、、基片温度900±10°C、沉积时间240h的沉积工艺条件下(衬底上加上-150V偏压),成功地在硅片上快速沉积出了厚度为500μm的金刚石厚膜,,沉积膜的拉曼光谱和SEM照片表明沉积出金刚石膜的质量很好。关键词:金刚石膜;微波;化学气相沉积;装置;磁控管中图分类号:TB43、TP271文献标识码:ASTEADILYANDFLEETLYDEPOSITECVDDIAMONDFILMSUNDERHIGH-POWERUSINGMICROWAVEHUANGJian-liang,WANGJian-hua(,WuhanUniversityofEngineering,Wuhan430073,China;,TheChineseAcademyofSciences,Hefei230031,China)Abstract:ToadvancethespeedofpreparatingCVDdiamondfilmsbymicrowaveplasmachemicalvapordeposition,ronofmicrowavepowersupply、,、%、M、、temperature900±10°C、depositing240h,withnegativebiasvoltage150Vonunderlay,(SEM):diamondfilms;microwaveplasma;chemicalvapordeposition;apparatus;ron1引言众所周知,金刚石具有极高的硬度,室温下有很好的热导率、