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IC工艺名词解释模板.docx

上传人:1338909**** 2020/9/10 文件大小:75 KB

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文档介绍

文档介绍:IC工艺名词解释模板IC工艺名词解释(l)Accounting影响工厂成本的主要因素有哪些?答:DirectMaterial直接材料,例如:蕊片IndirectMaterial间接材料,例如气体…Labor人力FixedManufacturing机器折旧,维修朋究费用 等ProductionSupport其它相关单位所花费的费用在FAB内,间接物料指哪些?答:Gas气体Chemical酸,硕化学液PHOTOChemical光阻,显影液Slurry研磨液Target靶材Quartz石英材料Pad&Disk研磨垫Container晶舟盒(用来放蕊片)ControlWafer控片TestWafer测试,实验用的蕊片什幺杲变动成本(VariableCost)?答:成本随生产量之增减而增减•例如:直接材料,间接材料什幺杲固定成本(FixedCost)?答:此种成本与产量无关,而与每一期间保持一固定数额•例如:设备租金,房屋折旧及繼器折旧Yield(良率)会影响成本吗?如何影响?答:Fabyield二若无报废产生,投入完全等于产出,则成本耗费最小CPYield:CPYield指测试一片芯片上所得到的有效的IC数目。当产出芯片上的有效IC数目越多,(CycleTime)对成本(Cost)的影响是什幺?答:生产周期煎短,则工厂制造成本愈低。正面效益如下:(1)积存在生产线上的在制品煎少(2)生产材料积存愈少(3)节省管理成本⑷产品交期短,赢得客户信赖,建立公司信誉FAC根据工艺需求排气分几个系统?答:分为一般排气(General).酸性排气(Scrubbers).碱性排气(Ammonia)和有机排气(Solvent)四个系统。高架地板分有孔和无孔作用?答:使循环空气能流通,不起尘,保证洁净房内的洁净度;防静电;便于HOOK-UP。离子发射系统作用答:离子发射系统,防止静电SMIC洁净等级区域划分答:MaskShopclass1&lOOFabl&Fab2Photoandprocessarea:ClasslOOCu-lineAl-LineOS1L3OS1L4testingClass1000什幺杲制程工艺真空系统(PV)答:杲提供厂区无尘室生产及测试机台在制造过程中所需的工艺真空;如真空吸笔、。该系统提供—定的真空压力(真空度大于80kpa)和流量,每天24小时运彳亍什幺杲MAU(MakeUpAirUnit),新风空调机组作用答:提供洁净室所需之新风,对新风湿度,温度,及洁净度进行控制,维持洁净室正压和湿度要求。HouseVacuumSystem作用答:HV(HouseVacuum)系统提供洁净室制程区及回风区清洁吸取微尘粒子之真空源,其真空度较低。使用方法为利用软管连接事先已安装在高架地板下或柱子内的真空吸孔,打开运转电源。此系统之运用可减低清洁时的污染。FilterFanUnitSystem(FFU)作用答:FFU系统保证洁净室内一定的风速和洁净度,由Fan和Filter(ULPA)组成。什幺杲CleanRoom洁净室系统答:洁净室系统供应给制程及机台设备所需之洁净度、温度、湿度、正压、气流条件等环境要求。Cleanroomspec:标准答:Temperature23°C±1°C(Photo:23°C±°C)Humidity45%± 5%(Photo:45%± 3%)ClasslOOOverpressure+±:Fab内的AreaOwner(若出现无水或大量漏水等可请厂务水课(19105)协助)工程师在正常跑货用纯水做rinse或做机台维护时,要注意不能有酸或有机溶剂(如IPA等)逬入纯水回收系统中,这是因为:答:酸合导致conductivity(导电率)升高,有机溶剂会导致TOC升高。两者均会影响并降低纯水回收率。若在Fab内发现地面有水滴或残留水等,应如何处理或通报答:先检查是否为机台漏水或做PM所致,若为厂务系统则通知厂务中控室(12222)机台若因做PM或其它异常,而要大量排放废溶剂或废酸等应首先如何通报答:通知厂务主系统水课的值班(19105)废水排放管路中酸碱废水/浓硫酸/废溶剂等使用何种材质的管路?答:酸硕废水/高密度聚乙烯(HDPE)浓硫酸/钢管内衬铁福龙(CS-PTFE)废溶剂/不坯钢管(SUS)若机台内的drain管有接错或排放成分分类有误,将会导致后端的主系统出现什幺冋题?答:将会导致后端处理的主系统相关指标处理不合格,从而可能导致公司排放□超标排放的事故。公司做水回收的意义如何?答:(1)节约用水,降低成本。重在环保。⑵符

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