$单晶硅腐蚀特性研究.pdf

文档介绍：!"!# 器件与技术
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!"#$ 单晶硅腐蚀特性研究
邓俊泳’,冯勇建!
(’2厦门大学机电工程系,福建厦门#3’""4;
!2厦门大学萨本栋微机电研究中心,福建厦门#3’""4)
摘要:0(1/ 是一种具有优良的腐蚀性能的各向异性腐蚀剂,选择性好,无毒且不污染环境,最
重要的是 0(1/ 与,(.* 工艺相兼容,符合*., 的发展趋势。0(1/ 正逐渐替代-./ 和其他
腐蚀液,成为实现()(* 工艺中微三维结构的主要腐蚀剂。本文着重介绍了 0(1/ 的特性、工
艺条件及应用。
关键词:四甲基氢氧化氨;各向异性腐蚀;微机电系统
中图分类号:05%"4 文献标识码:1 文章编号:’36’7%663 (!""#)’!7""#!7"#
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异性腐蚀是中的一个极其重要的工艺,是
引言()(*
’指在特定的腐蚀液中,硅在某些晶向上的腐蚀速
()(* 是一个多学科、多领域交叉的新兴学率很大;相比之下,其他晶向则要缓慢得多,甚
科,主要研究传感器、执行机构及微小机械结构。至可以认为不腐蚀。根据这种特性,选择适当的
其工艺由+, 工艺发展而来,主要包括清洗、氧化、工艺流程,可以加工出所需的各种各样的微结构。
扩散、光刻、腐蚀、气相沉积、封装等。与+, 工目前最常用的各向异性腐蚀剂是-./, 但随着
艺不同的是,()(* 工艺突破了平面工艺的局限, ()(* 逐步向*., 发展(*., 为系统芯片,即将
可实现各种微机械结构。,(.* 电路和微机械结构集成在同一块芯片上,这
微三维结