薄膜太阳能电池-PECVD.ppt

文档介绍：薄膜太阳能电池(非晶硅) 非晶硅薄膜电池生产超声波玻璃清洗机(重要设备) (镀膜前清洗) ?工艺:洗的是膜表面上的污垢和灰尘及一种高分子材料?要求:导电玻璃,不在生产线上用,速度越快越好;离线使用,单面清洗;导电玻璃最初清洗的材料是一种高分子材料(类似塑料),清洗液可能是水,也可能是四氢呋喃 THF 。激光划线机 1(重要设备) ?工艺:这一步主要是划刻氧化锡,使用的 1064 纳米波长的红外激光器?要求:刻蚀速度、激光源寿命、操作系统是否简单且方便操作、 Dead area 无用区域大小(三条刻膜线总线宽)、划刻线宽、系统产能( MW/ 年) 预热炉?工艺: 加热导电玻璃 PECVD 真空沉积系统,即等离子体增强化学沉积(主要设备) ?工艺: 非晶硅 p-i-n 镀膜?要求:电池转换率>6% 、生产效率、玻璃基片型号资料、价格冷却炉?工艺: 对导电玻璃降温激光划线机 2(重要设备) ?工艺:这一步主要是划刻非晶硅 a-Si ,使用的 532 纳米波长的绿激光器?要求:刻蚀速度、激光源寿命、操作系统是否简单且方便操作、 Dead area 无用区域大小(三条刻膜线总线宽)、划刻线宽、系统产能( MW/ 年) 磁控溅射系统(主要设备) ?工艺:主要是透明氧化物 TCO 镀膜,金属(银或铝)背电极镀膜激光划线机 3(重要设备) ?工艺:这一步主要是划刻铝或者银以及氧化锌膜, 使用的 532 纳米波长的绿激光器?要求:刻蚀速度、激光源寿命、操作系统是否简单且方便操作、 Dead area 无用区域大小(三条刻膜线总线宽)、划刻线宽、系统产能( MW/ 年)