文档介绍：声门下分泌物引流的应用
CU护师:陈美燕
2012-1130
提纲
定义
、清除气囊上滯留物的必要性
三、相关装置
四、操作技术
五、临床效果
六、并发症
定义
声门下滞留物引流(SSD):
又称气囊上滞留物引流,是指应
用附带于气管导管壁内的引流管路对
囊上滞留物进行持续或间断负压引流的
项操作技术
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清除气囊上滞留物的必要性
声门下-气囊上的间隙含有大量细
菌的分泌物潴留,大量研究表明,气囊
上、声门下聚集的分泌物误吸入下呼吸
道,是导致VAP的常见原因,因此,如
有条件,对于预计机械通气时间超过48
小时的病人,均应使用带有侧孔的气管
插管或者气管切开套管进行持续声门下
吸引,以清除声门下至插管气囊之间的
分泌物,同时不损伤声带。
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清除气囊上滞留物的必要性
建立人工气道患者,含有大量细菌
的口咽部分泌物、胃内反流物积聚在气
囊上形成滞留物。滞留物积聚,气囊压
迫致使气囊周围气道黏膜血供不足、血
药浓度降低,建立人工气道致使气道黏
膜损伤、局部免疫功能下降,均有利于
细菌繁殖。
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清除气囊上滞留物的必要性
气囊与气道壁挤压形成皱折,致
使气囊与气道壁之间不能完全密闭,
即使气囊压力增至70mmHg左右,滞
呼吸、体位变动,气囊压力一过性降
低,滞留物也可下移。口咽部、胃部
细菌随滞留物进入下呼吸道引起定植
或感染,成为VAP发病的重要因素。
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清除气囊上滞留物的必要性
清除气囊上滞留物可在一定程度
上避免细菌沿气囊周围下移进入下呼
吸道,降低VAP发生率,推迟VAP发
生的时间。
sSD为目前防止气囊上滞留物下移
的一种有效手段
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气囊充气管
吸引管
声门下吸
引开口处
黏液湖
图10-3声门下吸引示意图
相关装置
:分为气管插管和气管切开导管,均
采用高容低压型气囊,于导管弧形的背侧管壁设
计内腔。内腔腔体形成管路,下端开口于气囊
为引流人口
端在到达气管导管上端之前
连续出一导管,以便与负压引流装置相连。内腔
直径较小,阻力较大,分泌物稍有积聚就易堵塞
因此亦尽可能增大内腔直径。下端开口离气囊过
远,在负压过大时易粘附气道黏膜,造成黏膜损
伤;离气囊过近
囊充气后与气道壁挤压时
易被气囊葑闭导致引流不畅,因此与气囊之间的
距离选择极为重要,目前其下缘距气囊上缘多设
计在1cm
右
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声门下吸引管
声门下吸引开口处
气囊充气管
图10-4具有声门下引流功能的气管插管