文档介绍：第6章屏黻、搭接、系统接地
与隔离
为了保证电设备的正常工作,需要对电磁波
辐射进行控制,在通常采取的技术中,比较
有效的技术均是基于以下3项技术的:
是优化电路设计技术
二是配线分离技术(该技术包括线路板设计
的相关技术)
三是屏蔽技术
电磁屏蔽就是以金属隔离的原理来控制电磁
千扰由一个区域向另一个区域感应和辐射传
播的方法。
°电磁屏蔽一般分为两种类型:
类是静电屏蔽,主要用于防止静电场和
恒定磁场的影响,
。另一类是电磁屏蔽,主要用于防止交变电
场、交变磁场以及交变电磁场的影响。
电磁屏蔽的机理是电磁感应现象。在外界交
变电磁场作用下,通过电磁感应屏蔽壳体
内产生感应电流,而这感应电流在屏蔽空
间又
与外界电磁场方向相反的电磁
场,从而抵消了外界电磁场对屏蔽体内电
路的影响,产生了屏蔽效果。
电场强度与磁场强度之比称为波阻抗。对
于任何已知电磁波,波阻抗是一个十分关
键的参数,因为它决定了耦合效率,也决
定了导体的屏蔽效能。
对电磁波产生衰减的作用就是电磁屏蔽,电
磁屏蔽作用的大小用屏蔽效能度量
SE=20g(E/E2)dB或
SE= 201g(H1 H2)dB
其中E1为屏蔽前的场强,E2为屏蔽后的场
强,H1为屏蔽前的磁场强度,H2为屏蔽后的
磁场强度
如下图所示,屏蔽效能包括吸收损耗A、反射
损耗R与多次反射损耗B三部分组成。
入射波
场强
A
R
下图是最常见的3种屏蔽体在厚度为1毫米时的吸收
损耗随频率变化的曲线。由曲线可以看出,金属屏
蔽体的吸收损耗与材料本身的特性密切相关。
铁
50
吸40
损
厚度为1mm
耗30
10
t f(Hz)
10
100
lk
10k 100k IM
金属屏蔽体的反射损耗不仅与材料本身的特
性(电导率、磁导率)有关,而且与金属屏蔽体
所在的位置有关,还与场源特性有关。
静电屏蒇
静电干扰分为静电场感应产生的干扰和静磁一
场耦合产生的干扰。它们都可以用屏蔽方法
来抑制。
设在带正电荷的导体A附近有导体B,则导
体B靠近导体A时,A的一侧将会由于静电感
应而带负电。如果用金属屏蔽体将导体A包
围起来,此时在屏蔽体的内侧就感应出与
导体A等量的负电荷,在外侧出现等量的
正电荷,电力线继续到达导体B,而且使感应
电场更为复杂;如若将金属屏蔽体接地,使
屏蔽体的外侧电场消失,导体B就不会受到感
应千扰。这就是静电屏蔽的原理
静电屏蔽应具有两个基本要点,即完善
屏蔽体和良好的接地。