文档介绍：洼压料技大学论文题目:紫外光辐照精细铁酸铋薄膜的制备及其图案化研究培养单位:材料科学与工程学院导师:苗鸿雁教授谈国强副教授申请学位学科:工学所学学科专业:材料学硕士生:宋亚玉年
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紫外光辐照精细铁酸铋薄膜的制备及其图案化研究摘要铁磁电材料由于同时具有铁磁性和铁电性己被广泛作为一个磁电耦合参数秩序很有前途的材料。这些材料在自旋电子和信息存储应用方面具有很大的潜力。侵匾5奶诺绮牧现唬北硐殖鎏缬序永镂露任和反铁磁有序岫露任。由于这种磁电耦合性质,南低晨捎糜诜⒄构悴ァ⒌缡印⑽⒉ê臀佬峭ㄐ拧⑴菽娲设备、音频、视频、数字录音等领域的新应用程序。本文研究内容与结果摘要如下:芯苛艘恢衷诘臀滤芤褐兄票窧∧げ牧系男潞铣煞椒ā=自组装单分子薄膜技术,胍合喑粱际,相结合,利用功能化的单分子薄膜对前驱体溶液的诱导作用,在基底表面制备出结构均一的与基地结合牢固的薄膜及其图案化。该法只需在适当的溶液中浸入基片,在基片上便会沉积出致密均匀的薄膜。成膜过程操作简单,而且不需要昂贵的仪器。本研究在水的沸点以下,将基片浸渍在含有铋铁络合物离子的前驱液中,在基片上沉积出含有铋铁的络合物薄膜,然后再经过高温退火,获得具有纯相的薄膜。我们系统讨论了前驱液的配比,通过实验,确定了以珺G扒镌希韵〈姿嵛H芗粒阅酸为络合剂,,和柠檬酸的摩尔比为:渲频腂芤均匀且稳定性好。利用湎哐苌湟恰⑸璧缇、原子力显微镜等测试手段对所制备薄膜的结构、相组成和表面形貌进行了分析考察,研究结果表明:在前驱液浓度为一,.,沉积温度为℃,退火温度在的最佳工艺条件下,可以得到结晶良好的具有钙钛矿型晶体结构的薄膜,且膜层表面结构致密均一,与基底结合牢固;实验结果证明了功能性对于粒子在其表面沉积能起到明显的诱导作用,能够诱导扒逶诨妆砻婢鹊爻珊撕蜕ぃ成一层与基底结合紧密、结构致密的膜层。根据上述实验条件进一步对薄膜进行图案化制备。将甋逶诠庋谀じ哺窍掠米贤夤饨锌淌矗玫胶星姿院褪杷性区域的模板,利用液相沉积法在甋0灞砻嬷票噶薆及化薄膜。通过接触角仪、原子力显微镜、湎哐苌洹⑸璧缇怠射线能
相组成和微观形貌的影响。湎哐苌湟、扫描电镜⒃谱仪等测试手段对ず虰∧そ斜碚鳎峁砻鳎阂設为模板利用液相沉积法制备出边缘轮廓清晰、粗糙度较小,与基板结合力较强,条纹宽度为的图案化薄膜。芯苛嘶б合喾ㄖ票窧,薄膜的制备工艺,采用提拉法涂膜并研究了功能化的表面对于的影响及退火温度对铁酸铋薄膜的子力显微镜蚗射线能谱仪峁砻鳎赟δ芑的玻璃基底上所制备的铁酸铋薄膜结构致密均一,与基底表面结合力强;在退火温度为媸保犷榈木嗫J夹纬桑孀盼露鹊纳撸苌浞迩度变大,峰形变尖,在娴。∧ぁM嘶鹞露雀哂℃时,出现的杂峰。同时,进一步对薄膜进行图案化制备。关键词:宰樽安悖犷楸∧ぃ合喑粱及富Ⅱ
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