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文档介绍:ELECTRONICS WORLD・技术交流

正负性显影液显影机制简介
南京中电熊猫液晶材料科技有限公司 郭 景 吴 萍


在TFT液晶显示器、Color Filter彩色滤光片和集成电路等的制 1.1 负性光刻胶显影机制
作工艺中,为获得所需的精细pattern图形,需要使用光刻胶这样的 负性光刻胶使用负性显影液显影,常用的负性显影液是KOH,
感光材料,先以涂布的方式在玻璃基板或基材上形成一定厚度的薄 个别工厂也有使用Na2CO3的,但无论是哪种成份的碱液,其中必
膜,再经掩膜版曝光后,使用显影液进行显影,去除不需要的光刻 定会含有表面活性剂(surfactant)。负性光刻胶未曝光区域呈弱酸
胶薄膜部分,最终获取需要的图形。显影工艺通常有三种主要方 性(H+),单从化学反应层来理解便是未曝光区域光刻胶(H+)
法:浸入式、喷淋式和搅动式显影,目前在TFT液晶显示器、Color 与碱性显影液发生酸碱中和反应,即可显影出图形。那为何负性显
Filter彩色滤光片的生产工厂线上基本都是使用的喷淋式显影设备, 影液中必须含有表面活性剂呢,原来是因为负性光刻胶分子量大且
通过控制设备运转速度达到控制显影的时间长短,在显影段完成后 具有疏水性,需籍由显影液中的界面活性剂(surfactant)的帮助提
经过再过水洗制程,将残余显影液彻底冲洗,保证产品显影品质。 升亲水性,进而溶于显影液(OH-)中。如图1示意。
显影液是溶解经曝光造成的光刻胶可溶解区域的一种化学溶 1.2 正性光刻胶显影机制
剂,通常有正、负性两种显影工艺。对于负性显影工艺,显影液通 正性光刻胶使用正性显影液显影,常用的正性显影液为KOH
常是一种有机溶剂,如二甲苯。对于正性显影工艺,显影液通常是 with buffer、TMAH、NaOH等,其不含界面活性剂(surfactant)。
强碱溶液加水稀释后使用,常规的有氢氧化钾,四***氢氧化铵 正性光刻胶经过曝光制程感光处理后,PAC反应为酸性(H+),经
(TMAH)。常规的制程方法是正性显影液显影正

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上传人:学习好资料 2021/5/12 文件大小:1.26 MB

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