文档介绍：使用 TFCalc 编辑膜系的方法(简易操作步骤) 假设我们要设计一个反射率>% 高反膜系(波长 10600nm ): 条件: (1 )基底材料: GaAs (2 )膜料: ZnSe , YF3 具体步骤: 1. 点击 TFCalc 图标进入其操作界面: 图中弹出对话框,要求输入要编辑的文件名。因为我们是要新编膜系,则点击“取消”按钮,则只显示如下界面: 图中自左到右的菜单名称中文意思分别是:“文件”、“编辑”、“修改”、“运行”、“结果”、“杂项”和“帮助”。点击其中的任何一项将弹出其包含的菜单内容。 2 .点击第一项“ File ”,弹出如下菜单项: 左图中的中文意思自上到下分别是: ?新建膜系文件?重新打开膜系文件?关闭膜系文件?保存膜系文件?以其他的文件名保存膜系文件?恢复原始文件?打印膜系?打印设置?退出 TFCalc ?关于 TFCalc 3. 点击第一项“ New Coating ”弹出如下“编辑环境对话框”: 上图左边图中英文对应的中文意思分别是: A ngle 角度 I ncident Medium 入射介质 Substrate 基底 Front Layer 基底前面 Back Layer 基底后面 E xit Medium 出射介质在上图的右边框内分别输入: Reference Wavelength( 参考波长): 1580 Illuminate (光源): WHITE (白光) Incident angle (入射角): Incident medium (入射介质): AIR (空气) Substrate (基底) GaAs (***化镓) T hickness (厚度) mm 1 (一般不考虑基底材料的厚度) E xit medium (出射介质) GaAs ( 如果是***膜系, 则出射介质一般是空气) D etector (探测器): IDEA( 理想探测器) F irst Surface (第一面) Front 注: 光源、基底材料、探测器应该分别在 Illuminate 、 substrate 、 detector 库中存在。这些库可以增减。 4. 点击下面的“ Analysis Parameters ”(分析参数)按钮,弹出下面的对话框: 因为本例我们考虑是入射角为 0 的条件,因此选中第一项的圆形无线电按钮------ R ange of wavelengths (波长范围)( nm ) ,其他的均不选。点击 OK 按钮,返回上一层对话框,再点击 OK 按钮,显示如下的反射率与波长的关系曲线图(该图显示的没有镀膜情况下,基底材料的反射率): 图上方的英文字符列出了该图成立的环境条件。现在我们可以进入下一步具体的膜系结果设计,一般高反膜系的结构是(HL)^ sH ,其中 s 是大于 0的正整数。 5. 点击“ Modify ”菜单,弹出如下菜单选项: 左边菜单项从上到下对应的中文意思是: ?环境?膜堆公式?前面层?后面层?组?单一目标?连续目标?注释?可变材料?环境?材料?基底?光源?探测器?分布 6. 编辑膜系,有 2 种方法可以编辑膜系,下面我们分别介绍: (1 )使用膜堆公式(a )选择“ Stack Fomula ”,弹出如下膜堆公式窗口: 图中的英文意思如下: E nter the formula