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第 29 卷第 3 期应用光学 V o l. 29 N o. 3
2008 年 5 月 Journal of A pp lied Op tics M ay 2008
文章编号: 1002 2082 (2008) 03 0385 05
模拟退火算法与遗传算法在光谱椭偏数据
处理中的应用比较
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周全, 黄云
(国防科学技术大学光电科学与工程学院, 湖南长沙, 410073)
摘要: 分别利用模拟退火算法和遗传算法在M A TLAB 6. 5 中编写了一个数据处理程序, 用来
处理VA SE 椭偏仪在光谱范围为500 nm~ 900 nm 所测得的椭偏数据。根据VA SE 椭偏仪的光度
法原理, 对评价函数方程进行了改进, 并选择合适的退火参数和遗传参数进行计算, 得到的数据处
理结果与仪器处理结果基本一致。最后对两种算法在解决该类问题上的优劣进行了比较。
关键词: 椭圆偏振测量术; 模拟退火算法; 遗传算法; 数据处理
中图分类号: TN 29 文献标志码: A
Application par ison of simulated annealing algor ithm and
ic algor ithm in spectral ellipsometry data processing
ZHOU Q uan, HUAN G Yun
(Co llege of Op toelectronic Science and Engineering, N ational U niversity of
D efense and T echno logy, Changsha 410073, Ch ina)
Abstract: A data p rocessing p rogram w as w ritten in M A TLAB 6. 5 w ith the simu lated
annealing algo rithm and ic algo rithm to p rocess the ellipsom etry data detected by VA SE
E llipsom eter in the spectral range of 500 nm~ 900 nm. T he evaluating function equation w as
imp roved acco rding to the pho tom etry p rinciple of VA SE E llipsom eter, and som e calcu lation s
w ere m ade w ith som e p roper annealing and ic param eters. T he resu lts of the data
p rocessing agree w ith tho se of the in strum en t p rocessing. A t last, the two algo rithm s w ere
compared.
Key words: ellipsom etry; simu la