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看看CPU内部结构.doc

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文档介绍:看看CPU内部结构
面的采用了铜互连技术的线路设计,就又有一个问题出现了,这么负责的线路,中间是怎么绝缘的呢?现在,我们继续来分析。
    在CPU核心内电流从铜互连的导线上流过,这就是我们现在常
看看CPU内部结构
面的采用了铜互连技术的线路设计,就又有一个问题出现了,这么负责的线路,中间是怎么绝缘的呢?现在,我们继续来分析。
    在CPU核心内电流从铜互连的导线上流过,这就是我们现在常听到一个热门的名词——Low-K(低介电常数绝缘体)工艺。其实这个low-k物质,就是为了在铜互连层进行绝缘的。从图上我们可以看到,在CPU核心内,电流从铜互连的导线上流过,low-k便用来绝缘。那么为什么要采用low-k这种技术呢?原因其实很简单:采用low-k作为绝缘物质,让线间漏电降低,使芯片的发热量低。***化玻璃介质作为绝缘层。这种芯片的发热量,远比采用low-k工艺的芯片发热量高。
  但是,由于Low-k技术的芯片质地较脆,在芯片封装上需要较高工艺。-k技术,。由于Low-k技术的芯片质地较脆,在芯片封装上需要较高工艺,所以一直以来都受到良品率的困绕。不过现在low-k工艺已经基本成熟,配合先进的制程,降低了发热,便可以做出频率更高的CPU来。
第三部分,CPU使用中2个问题的解释:
  对于CPU来说,我们很多读者都关系两个问题:CPU超频和CPU寿命。这里我们就对读者朋友疑问较多的这两个问题,进行一点简单分析。
  关于CPU的超频:CPU为什么可以超频呢?什么影响着超频的能力呢?
  我们知道,CPU的制造过程就是用激光在晶圆上蚀刻电路。所谓蚀刻就采用一定波长的紫外透过掩膜(掩膜,相当与我们洗相片时候用的底版)后照射在硅晶圆上,将掩膜上的电路图像完整地复制到硅晶圆上。蚀刻过程中关键是所使用的紫外线的波长和晶圆的质量。波长越短的紫外线干扰和衍射现象就越不明显,晶体管就可以实现越小的线宽。
  晶圆纯度越高直径越大,所生产的芯片性能越好良品率就越高。硅晶圆生产过程中,离晶圆中心越远就越容易出现坏点。因此从硅晶圆中心向外扩展,坏点数是呈上升趋势。同时纯度越高,所生产出来的芯片瑕疵越少,频率越高。
晶体成型,切片,刻蚀电路是制造处理器必须的过程
  这里我们就可以看出来,在CPU激光蚀刻过程中是不分频率的,也就是说都是按照同样的工艺生产的。但是在生产过程中,会出现较完美的芯片,和有瑕疵的芯片。
  然后还要经过筛选标注的过程。就是按照不同的芯片的质量,优秀的标注为高的频率的产品,有瑕疵的为了稳定,标注为频率较低的产品。
  CPU的标注过程也是一个严格的检测过程。由于受到晶圆纯度和加工过程中不确定因素的影响,不可能所有的CPU都是按照设计生产出来的完美的产品。这就需要把产品按照实际性能的高低区分开来。这就需要严格的检测。CPU的稳定性检测是很严格的,其测试环境是相当苛刻的。通过大量的繁杂的多任务运算对CPU的稳定性进行全面的测试。这样选择一个保守的,能全部稳定通过所有严格测试的程序的频率,然后进行产品标志。这就