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硅基MEMS制造技术 纳尺度结构冲击实验方法-编制说明.pdf

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硅基MEMS制造技术 纳尺度结构冲击实验方法-编制说明.pdf

上传人:资料之王 2022/5/20 文件大小:235 KB

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硅基MEMS制造技术 纳尺度结构冲击实验方法-编制说明.pdf

文档介绍

文档介绍:国家标准《微机电系统(MEMS)技术
硅基 MEMS 纳尺度结构冲击试验方法》

(征求意见稿)

编 制 说 明部分
委员和专家对标准草案第一稿进行了逐条讨论,会后又参考和采纳了有关委员提供的部分书面意见和建
议,在此基础上形成该标准第一次征求意见稿。征求意见稿由标委会秘书处广泛征求委员、专家和重点
企业的意见并于 2021 年 5 月形成了标准草案第二稿。2021 年 6 月传阅给组内专家和组外有兴趣的专家
或学者进行修改和评议,之后形成了标准草案第三稿。2021 年 7 月 29 日全国微机电技术标准化技术委
员会 SAC/TC 336 在苏州组织召开研讨会。2021 年 12 月,经过多次的书面意见收集和现场会议讨论,确
定了《微机电系统(MEMS)技术 硅基 MEMS 纳尺度结构冲击试验方法》标准草案的征求意见稿。并拟于
2022 年 05 发布于网上公开征求意见。
主要参加单位和工作组成员及其所做的工作等
二、 编制原则
1. 标准编制原则
本标准主要遵循以下原则编写:
(1)保证标准的适用性。结合我国硅基 MEMS 制造技术水平现状和发展趋势、以及行业对于微纳结
构力学特性参数检测的需求,而编写本标准。
(2)保证标准的先进性。本标准涉及的纳尺度结构冲击试验方法在国内外尚未见报道。
(3)保证标准的一致性。与国际通行标准接轨,与我国硅基 MEMS 制造技术的基础类标准保持协调
一致,与其他行业的相关标准相互之间不冲突,而编写本标准。
(4)保证标准的合规性。标准内容与我国现有法律法规、国家政策制度和行业规定规则等无冲突。
(5)注重标准的科学性和规范性。以符合标准编写规范的语言给出推荐性的建议,而编写本标准
2. 标准主要内容
本标准规定了硅基 MEMS 加工所涉及的纳尺度结构冲击试验的术语、试验要求和试验方法,本标准
适用于采用微电子工艺制造的纳尺度结构在一次冲击负荷作用下的耐冲击性能的测试,纳结构的材料为
脆性材料。
本标准包括原位片上纳尺度结构冲击试验机的设计要求、制备要求、测试结构的材料和试验环境的
要求。详细描述了原位片上纳尺度结构冲击试验机的试验方法和确定测试结构在冲击后的损伤情况的方
法,以及纳尺度结构冲击能量试验的试验过程和试验结果处理等。
三、 主要试验(或验证)情况
我们对文本中的试验方法进行了实验设计和验证。原位片上纳尺度结构冲击试验的测试装置和测试
结构的设计尺寸参照附录 A 的表 。
对相同尺寸的原位片上纳尺度结构冲击试验机进行了分区测试,测试区域如图 1 所示。详细