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模拟电子技术基础(第五版)课件.pptx

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文档介绍

文档介绍:模拟电子技术基础(第五版)课件
第一页,共63页。
半导体的基本知识
半导体材料
半导体的共价键结构
本征半导体
杂质半导体
第二页,共63页。
,因此五价杂质原子也称为施主杂质。
第十三页,共63页。
N型半导体的结构示意图如图所示:
磷原子核
自由电子
所以,N型半导体中的导电粒子有两种:
自由电子—多数载流子(由两部分组成)
空穴——少数载流子
第十四页,共63页。
2. P型半导体
杂质半导体
因三价杂质原子在与硅原子形成共价键时,缺少一个价电子而在共价键中留下一个空穴。
在P型半导体中空穴是多数载流子,它主要由掺杂形成;自由电子是少数载流子, 由热激发形成。
空穴很容易俘获电子,使杂质原子成为负离子。三价杂质 因而也称为受主杂质。
第十五页,共63页。
P型半导体的结构示意图如图所示:
硼原子核
空穴
P型半导体中:
空穴是多数载流子,主要由掺杂形成;
电子是少数载流子,由热激发形成。
第十六页,共63页。
3. 杂质对半导体导电性的影响
杂质半导体
掺入杂质对本征半导体的导电性有很大的影响,一些典型的数据如下:
T=300 K室温下,本征硅的电子和空穴浓度:
n = p =×1010/cm3
1
本征硅的原子浓度: ×1022/cm3
3
以上三个浓度基本上依次相差106/cm3 。
2
掺杂后 N 型半导体中的自由电子浓度:
n=5×1016/cm3
第十七页,共63页。
本征半导体、杂质半导体
本节中的有关概念
自由电子、空穴
N型半导体、P型半导体
多数载流子、少数载流子
施主杂质、受主杂质
第十八页,共63页。
PN结的形成及特性
PN结的形成
PN结的单向导电性
PN结的反向击穿
PN结的电容效应
载流子的漂移与扩散
第十九页,共63页。
载流子的漂移与扩散
漂移运动:
在电场作用引起的载流子的运动称为漂移运动。
扩散运动:
由载流子浓度差引起的载流子的运动称为扩散运动。
第二十页,共63页。
PN结的形成
因浓度差
多子扩散
形成空间电荷区
促使少子漂移
阻止多子扩散
扩散到对方的载流子在P区和N区的交界处附近被相互中和掉,使P区一侧因失去空穴而留下不能移动的负离子,N区一侧因失去电子而留下不能移动的正离子。这样在两种半导体交界处逐渐形成由正、负离子组成的空间电荷区(耗尽层)。由于P区一侧带负电,N区一侧带正电,所以出现了方向由N区指向P区的内电场
第二十一页,共63页。
PN结的形成
当扩散和漂移运动达到平衡后,空间电荷区的宽度和内电场电位就相对稳定下来。此时,有多少个多子扩散到对方,就有多少个少子从对方飘移过来,二者产生的电流大小相等,方向相反。因此,在相对平衡时,流过PN结的电流为0。
第二十二页,共63页。
在一块本征半导体两侧通过扩散不同的杂质,分别形成N型半导体和P型半导体。此时将在N型半导体和P型半导体的结合面上形成如下物理过程:
因浓度差

空间电荷区形成内电场

内电场促使少子漂移

内电场阻止多子扩散
最后,多子的扩散和少子的漂移达到动态平衡。
多子的扩散运动
由杂质离子形成空间电荷区

第二十三页,共63页。
对于P型半导体和N型半导体结合面,离子薄层形成的空间电荷区称为PN结。
在空间电荷区,由于缺少多子,所以也称耗尽层。由于耗尽层的存在,PN结的电阻很大。
PN结的形成过程中的两种运动:
多数载流子扩散
少数载流子飘移
end
第二十四页,共63页。
PN结的单向导电性
当外加电压使PN结中P区的电位高于