文档介绍：工艺数据监控方法、装置及系统的制作方法
专利名称：工艺数据监控方法、装置及系统的制作方法
技术领域：
本发明涉及工艺数据监控技术，尤其涉及一种用于监控半导体加工过程中工艺数 据变化的工艺数据监控方法、装置及系统。
背景技术：
目前本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图和具体实 施方式对本发明作进一步详细的说明。在本发明中，可分别由APC上位机运行APC软件、CTC上位机运行CTC软件，即APC 上位机与CTC上位机相互独立，但这种方式增加了设备生产产商和用户厂家的相关成本； 优选地，可由CTC上位机同时运行CTC软
件和APC软件，即CTC上位机集成工艺数据监控功 能，以减少设备生产产商和用户厂家的相关成本。由此，本实施例及以下实施例将同时运行 CTC软件和APC软件的CTC上位机称之为监控上位机，PMC下位机称之为监控下位机。
再者，与现有技术中APC上位机主动读取工艺数据的监控方式相比，本发明基于 所改进的APC软件，提出了一种改进的监控方法，通过对监控上位机监控过程中数据采集 及数据处理方式的优化，降低了处理数据过程中的资源消耗。下面通过具体实施例进行详 细说明。图1为本发明工艺数据监控方法的流程图。如图1所示，工艺数据监控方法的步 骤包括步骤101、读取监控下位机所采集的工艺数据组，并根据该工艺数据组生成显示图 像；在刻蚀机加工半导体过程中，监控下位机实时采集各种工艺数据，例如压力数 据、温度数据、入射功率数据、反射功率数据、工艺气体流量数据等；并将上述各种工艺数据 保存成一工艺数据组；其中，每一工艺数据至少包括工艺类型标识、时间标识和工艺数据 值，例如一压力数据所包括的工艺类型标识为压力类型标示、其时间标识和工艺数据值随 刻蚀机实际运行情况而定。在本步骤中，监控上位机通过主动读取的方式，获取监控下位机所采集的上述工 艺数据组，在识别该工艺数据组所包括的每个工艺数据的工艺类型标识后，根据不同工艺 类型标识对多个工艺数据进行分类，以生成对应不同工艺类型标识的多个工艺数据队列， 例如可将工艺数据组所包括的多个工艺数据分为压力数据队列、温度数据队列、入射功率 数据队列、反射功率数据队列、工艺气体流量数据队列等，且每一工艺数据队列都唯一对应 一工艺类型标识；最后，以工艺数据队列为单位，根据各工艺数据队列中工艺数据所包括的 时间标识和工艺数据值，绘制对应各工艺数据队列的工艺数据曲线，各工艺数据曲线可通 过不同颜色进行区分，且由上述各工艺数据曲线所组成的显示图像在本步骤中可视为初始 显示图像。步骤102、接收至少一个更新后工艺数据，并添加至少一个更新后工艺数据至工艺 数据组中，以生成更新后工艺数据组；随着刻蚀机加工半导体的不断进行，监控下位机所采集的各种工艺数据都在不断 变化，换句话说，在多个工艺类型标识相同的工艺数据中，至少每个工艺数据的时间标识是 不同的；在监控上位机主动读取工艺数据组的动作后，监控下位机每采集一工艺数据，则将 其工艺数据值与步骤101工艺数据组内相同工艺类型标识工艺数据中时间标识排位最后 的工艺数据的工艺数据值进行比较，如有变化，则视该工艺数据为更新后工艺数据，并上传 至监控上位机。监控上位机在预设接收时间段内，可不断地接收监控下位机所主动上传的更新后 工艺数据，该预设接收时间段可设置为1秒，在本步