文档介绍：一种电容触控屏及其生产工艺的制作方法
专利名称：一种电容触控屏及其生产工艺的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种具有双层高温ITO图层及跳跃结构的电容触控屏及其生产工艺。
背景技术：
现有的触控面板(Touch Panel)的触控蚀刻技术进行蚀刻。但常温真空磁控溅射方式溅镀出来的ITO膜电阻和ITO膜厚难以控制，制作黄光草酸蚀刻后要进行高温烘烤(温度240°C ;时间；30-45分钟)还原ITO膜电阻(把常温溅镀ITO膜电阻通过高温烘烤来降低到标准所需要的ITO膜
电阻)。本发明为了防止ITO跳跃导体图层4与ITO单元图层6因材料相同。而被同一蚀刻液把有效图层蚀刻掉，导致功能上短路。所以本发明制作绝缘架桥层时使用OC负性绝缘透明光阻，其附着力强，不易四边翘起及脱落，有效的保护ITO跳跃导体不被下一道制程制作ITO单元图层6图案时蚀刻药液攻击破坏ITO跳跃导体图层4。
就此研发出更高效的生产工艺:步骤1、玻璃基板3采用强化后正常触控基板玻璃，浮法面采用真空磁控溅射方法镀制ITO跳跃导体图层4，溅射温度为250°C _350°C，采用触控屏的触控部黄光光刻技术，对ITO膜进行清洗，涂布，烘烤，曝光、显影，蚀刻，剥离工艺处理，制作成ITO跳跃导体图层4;步骤2、在ITO跳跃导体图层4上制作一层通过黄光光刻制作OC绝缘架桥层5 ;采用控屏的触控部黄光光刻技术，依次进行清洗，涂布，烘烤，曝光、显影，硬烤工艺处理，制作OC绝缘架桥层5 ;也是本专利关键所在，利用OC负性绝缘透明光阻制作绝缘架桥层；OC正性绝缘透明光阻黄光制作中，通过掩膜板成图案，有被UV光照射的区域光阻通过显影把光阻去除。正性绝缘透明光阻附着力差，容易边缘翘起使的ITO蚀刻药液渗漏把原先制作好的ITO跳跃导体图案被蚀刻掉，导致功能断路，优点:生产异常时，可以返工处理。 OC负性绝缘透明光阻黄光制作中，生产异常时，无法返工处理。优点:附着力好。可以有效的保护ITO跳跃导体图层不被攻击破坏ITO跳跃导体图层；因此制作绝缘架桥层时使用OC负性绝缘透明光阻，其附着力强，不易四边翘起及脱落，有效的保护ITO跳跃导体不被下一道制程制作ITO单元图形6图案时蚀刻药液攻击破坏ITO跳跃导体图层4;步骤3、采用真空磁控溅射方法镀制ITO单元图形6，采用正常参数300_350°C真空磁控溅射方法镀制；再在溅射的ITO膜上制作ITO单元图层6，此为常规手段，即采用触控屏的触控部黄光光刻技术，对ITO膜进行涂布，烘烤，曝光、显影，蚀刻，剥离工艺处理，制作成ITO单元图层6;此为本专利的重点主题制作ITO-jumper及ITO-pattern都是使用正常高温镀膜。正常高温镀膜优点:ΙΤ0分子结构牢固，导电性好，工艺容易管控制程参数。改进了之前正常高温镀膜ITO制作jumper，低温镀膜ITO制作pattern的制作方式。之前方式溅镀ITO-pattern层的ITO时,面电阻及透过率都难控制,后还需要在pattern蚀刻后经行高温烘烤。还原面电阻。还有黄光要使用两种不同的ITO蚀刻药液，对生产排产及药液管制带来不便；步骤4、，其采用触摸屏黄光光刻技术，对金属层进行:清洗，涂布，软烤，曝光，显影，硬烤，蚀刻，