文档介绍：夫哆烈易蔫毒垮微硕士学位论文舢、膊粼覼透明导电薄膜的研究指导教师姓名:申请学位级别:论文定稿日期:学位授予单位:学位授予日期:祝柏林教授武汉科技大学材料与冶金学院答辩委员会主席:评人:
』摘要论文首先研究了在心气氛下、不同衬底温度℃℃敝票傅牟煌ず~铝掺杂氧化锌∧ひ蚓弑赋杀镜土⑽薅竞驮谇獾壤胱犹逯形榷ㄐ愿叩扔诺而成为∧さ奶娲摺4趴亟ι浞ň哂谐赡に俾士欤阶判院谩⒖纱竺婊粱扔诺而成为制备∧な籽〉姆椒ǎǖ臀鲁粱谋∧ね缱杪式细撸腹庑圆缓茫以满足光电器件的需要。最近,有文献指出低温下掺入梢杂行岣逜薄膜的光电性能,但在不同溅射工艺参数下訟薄膜光电特性的影响还缺乏全面系统的研究。本论文旨在改变镀膜工艺参数,系统研究沉积时引入对∧さ耐该鞯嫉缧阅艿挠响,总结出淖饔煤拖喙氐幕恚竦镁哂杏旁酵该鞯嫉缧阅艿腁薄膜。腁薄膜的结构和光电性能。结果发现,只有当衬底温度升高到℃时,薄膜才表现出沿较虻脑裼派ぁK娉牡孜露然虮∧ず穸鹊脑黾樱∧さ结晶度增加,压应力释放。薄膜结晶度的提高导致了薄膜载流子浓度和迁移率的增加,因此其电阻率下降。衬底温度℃时,膜厚达到左右时,得到最低的电阻率为一6杂诒∧さ目杉馔腹饴剩婺ず裨黾樱腹饴蚀蟾糯下降到%。研究∧さ慕矶取慕峁砻鱁览涤诒∧さ木Я3叽纭⒃流子浓度和应力。衬底温度媸背粱谋∧び凶畲蟮,这主要是由于其有大的载流子浓度和压应力的缘故。随膜厚的增加,载流子浓度增加可以增大,但同时压应力的降低和/或晶粒尺寸的增大可以降低R虼耍珽婺ず裨黾映氏殖霾槐浠蛳陆档那魇啤在上述研究的基础上,论文进一步研究了不同衬底温度、不同/葆流量比~下制备的∧ぁ=峁⑾种票傅谋∧ざ汲氏盅方向的择优取向生长;随着流量比的增加,对于下制备的薄膜,其薄膜应力显著降低,结晶度明显提高;对于衬底温度为嬷票傅谋∧ぃ溆α徒峋Ф让挥邢灾浠R后,薄膜的载流子浓度和迁移率在衬底温度为和媸泵飨栽黾樱背牡孜露任媸币灿幸欢ǔ潭鹊脑黾樱牡孜露任℃时则没有明显的变化。当流量比达到ナ保琑℃制备薄膜的电阻率显著下降,甚至低于℃制备薄膜的电阻率。在衬底温度为,流量比为ナ保玫降淖畹偷缱杪饰.。这些结果表明,衬底温度低于妫琀囊攵訸光电性能的改善是明显;并且表明了羧隯晶格中主要主要是以间隙男问酱嬖凇1∧ね干淦籽芯勘砻鳎篐氤粱气氛有利于提高薄膜的透光率。对于薄膜的ぃ饕H【鲇谠亓髯优ǘ龋ǘ訰轮票的薄膜,其目砘肫湎感〉木Я3叽绾痛蟮难褂ασ灿幸欢ǖ墓叵怠最后,论文研究了在衬底未加热,的流量比为ナ保ι涔β省⑵购湍ず穸訟薄膜结构和光电性能的影响。当保持溅射功率为时,随溅射气压增加,薄膜的结晶度降低;当气压为时,可得到最低的电阻率.。保持溅射压强为时,随溅射功率增大,薄膜的结晶度提高;薄膜的载流子浓度和迁移率保持增大的趋势,而电阻率呈下降的趋势;当溅射功率为时,载流子浓度显著增加,而且迁移率也保
第页关键词:∧ぃ磺獠粼樱淮趴亟ι洌坏缱杪剩煌腹饴剩唤矶
瑃武汉科技大学硕士学位论文簂℃.曲.,,.第%℃..℃.襱%畉/ィ,猼.【.℃.,妫琤阰
甤。;第页琣琲甧.,%睭;妫甌℃膇甀..,甧ィⅱ鬶;,瑂甌%..坞:籋甤
溅射制备砧、膊鬦薄膜的研究现状⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯第录⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯第一章绪论⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯.透明导电薄膜概述⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯。∧さ奶匦浴∧⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯.∧さ墓庋匦杂跋煲蛩亍∧さ难芯肯肿础磁控溅射技术制备∧⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯.ι渲票窤薄膜的技术优势⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯..奠⋯⋯⋯..ι涔ひ詹问訟薄膜的影响⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯研究目的,研究内容⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯第二章衬底温度和膜厚对∧そ峁购凸獾缪阅艿挠跋臁引言⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯.实验过程⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯.。牧闲阅懿馐浴实验结果分析⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯..∧さ慕峁固卣鳌∧さ牡缪阅堋∧さ耐腹馓匦浴本章小结⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯第三章衬底温度和/髁勘榷訟薄膜结构和电光学性能的影响⋯⋯⋯弓浴实验过程⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯.实验结果与分析⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯⋯