文档介绍：中文摘要膜层的表面形貌有很大的影响,当外加电压过高或过低都会造成膜层表面粗糙,,氧化时间为基于优化的工艺条件,进一步对薄膜进行非金属离子掺杂,拓宽其光响应范围,提高的光催化活性。分别采用与魑A蛟矗膜层的晶相组成及表面形貌没有产生明显的变化,利用电解液修饰法对薄膜进行过渡金属离子的掺杂。本文以·魑5缃庖海玫壤胱犹逦⒒⊙趸际踉赥钛合金材料表面原位生长薄膜。研究了微弧氧化过程中电解液浓度、氧化时间和电流密度等工艺条件对薄膜相组成、表面形貌及其光催化性能的影响,得到优化的制备工艺条件。在此基础上,对进行非金属离子掺杂和过渡金属、、离子掺杂,提高光的利用效率。通过湎哐苌、紫外一可见漫反射光谱、扫描电子显微镜⒑蚗射线光电子能谱等分析方法对上述催化剂的结构、组成和表面形貌等性质进行了表征,并在可见光条件下,考察了薄膜的光催化产氢性能。在磷酸盐体系中主要生成锐钛矿相,随着氧化时间的延长或者电流密度的提高,膜层中会出现金红石相,影响薄膜的光催化性能。微弧氧化过程对孔尺寸范围在。紫外光下制氢实验结果表明,优化的工艺条件为:电解液浓度为,电流密度电解液修饰法对薄膜进行胱拥牟粼樱峁砻鳎翰粼恿蚶胱雍蟮腡魑A蛟床粼雍骉的吸收边红移效果优于作为硫源。电解液中的浓度为时,产氢速率达到,,产氢速率达到。但是电解液中存在的含硫离子超过一定浓度时在微弧氧化过程中会对膜层造成明显的腐蚀。掺杂、、等过渡金属离子对膜层的晶相组成及生长有明显的影响,掺杂后膜层的吸收边红移效果明显,红移效果按排列,掺杂●痙。疞
⋯、”、离子后的薄膜产氢速率得到明显提高,分别达到关键词:;固定化;微弧氧化;光催化●痗../。黑龙江大学硕士学位论文甴,
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