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答:晶体中,与某一晶向[uvw]平行的所有晶面(HKL)属于同一晶带,称为[uvw]晶带,该晶向[uvw]称为此晶带的晶带轴,它们之间存在这样的关系:Hu+Kv+Lw=0取某点O*为倒易原点,则该晶带所有晶面对应的倒易矢(倒易点)将处于同一倒易平面中,这个倒易平面与Z垂直。由正、倒空间的对应关系,与Z垂直的倒易面为(uvw)*,即[uvw]⊥(uvw)*,因此,由同晶带的晶面构成的倒易面就可以用(uvw)*表示,且因为过原点O*,则称为0层倒易截面(uvw)*。
2二次电子像和背散射电子像在显示表面形貌衬度时有何相同与不同之处?
答:二次电子像:
1)凸出的尖棱,小粒子以及比较陡的斜面处SE产额较多,在荧光屏上这部分的亮度较大。
2)平面上的SE产额较小)亮度较低。
3)在深凹槽底部尽管能产生较多二次电子,使其不易被控制到,因此相应衬度也较暗。
背散射电子像:
1)用BE进行形貌分析时,其分辨率远比SE像低。
2)BE能量高,以直线轨迹逸出样品表面,对于背向检测器的样品表面,因检测器无法收集到BE而变成一片阴影,因此,其图象衬度很强,衬度太大会失去细节的层次,不利于分析。因此,BE形貌分析效果远不及SE,故一般不用BE信号。
为什么会出现吸收限?K吸收限为什么只有一个而L吸收限有三个?当激发K系荧光Ⅹ射线时,能否伴生L系?当L系激发时能否伴生K系?
答:一束X射线通过物体后,其强度将被衰减,它是被散射和吸收的结果。并且吸收是造成强度衰减的主要原因。物质对X射线的吸收,是指X射线通过物质对光子的能量变成了其他形成的能量。X射线通过物质时产生的光电效应和俄歇效应,使入射X射线强度被衰减,是物质对X射线的真吸收过程。光电效应是指物质在光子的作用下发出电子的物理过程。
因为L层有三个亚层,每个亚层的能量不同,所以有三个吸收限,而K只是一层,所以只有一个吸收限。
激发K系光电效应时,入射光子的能量要等于或大于将K电子从K层移到无穷远时所做的功Wk。从X射线被物质吸收的角度称入K为吸收限。当激发K系荧光X射线时,能伴生L系,因为L系跃迁到K系自身产生空位,可使外层电子迁入,而L系激发时不能伴生K系。
什么是分辨率,影响透射电子显微镜分辨率的因素是哪些?
答:分辨率:两个物点通过透镜成像,在像平面上形成两个爱里斑,如果两个物点相距较远时,两个Airy斑也各自分开,当两物点逐渐靠近时,两个Airy斑也相互靠近,直至发生部分重叠。根据LoadReyleigh建议分辨两个Airy斑的判据:当两个Airy斑的中心间距等于Airy斑半径时,此时两个Airy斑叠加,在强度曲线上,两个最强峰之间的峰谷强度差为19%,人的肉眼仍能分辨出是两物点的像。两个Airy斑再相互靠近,人的肉眼就不能分辨出是两物点的像。通常两Airy斑中心间距等于Airy斑半径时,物平面相应的两物点间距成凸镜能分辨的最小间距即分辨率。
影响透射电镜分辨率的因素主要有:衍射效应和电镜的像差(球差、像散、色差)等。
有效放大倍数和放大倍数在意义上有何区别?
答:有效放大倍数是把显微镜最大分辨率放大到人眼的分辨本领(),让人眼能分辨的放大倍数。
放大倍数是指显微镜本身具有的放大功能,与其具体结构有关。放大倍数超出有效放大倍数的部分对提高分辨率没有贡献,仅仅是让人观察得更舒服而已,所以放大倍数意义不大。
显微镜的有效放大倍数、分辨率才是判断显微镜性能的主要参数。
球差、像散和色差是怎样造成的?如何减小这些像差?哪些是可消除的像差?
答:1,球差是由于电磁透镜磁场的近轴区与远轴区对电子束的会聚能力的不同而造成的。一个物点散射的电子束经过具有球差的电磁透镜后并不聚在一点,所以像平面上得到一个弥散圆斑,在某一位置可获得最小的弥散圆斑,成为弥散圆。还原到物平面上,则半径为
rs=1/4Csα3
rs为半径,Cs为透镜的球差系数,α为透镜的孔径半角。所以见效透镜的孔径半角可减少球差。
2,色差是由于成像电子的波长(能量)不同而引起的。一个物点散射的具有不同波长的电子,进入透镜磁场后将沿各自的轨道运动,结果不能聚焦在一个像点上,而分别交在一定的轴向范围内,形成最小色差弥散圆斑,半径为rc=Ccα|△E/E|
Cc为透镜色差系数,α为透镜孔径半角,△E/E为成像电子束能量变化率。所以减小△E/E、α可减小色差。
3,像散是由于透镜磁场不是理想的旋对称磁场而引起的。可减小孔径半角来减少像散。
影响电磁透镜景深和焦长的主要因素是什么?景深和焦长对透射电子显微镜的成像和设计有何影响?
答:(1)把透镜物平面允许的轴向偏差定义为透镜的景深,影响它的因素有电磁透镜分辨率、孔径半角,电磁透镜孔径半角越小,景深越大,如果允许较差的像分辨率(取决于样品),那么透镜的景深就更大了;把透镜像平面允许的轴向偏差定义为透镜的焦长,影响它的因素有分辨率、像点所张的孔径半角、透镜放大倍数,当电磁透镜放大倍数和分辨率一定时,透镜焦长随孔径半角的减小而增大。
(2)透射电子显微镜的成像系统由物镜、中间镜和投影镜组成。物镜的作用是形成样品的第一次放大镜,电子显微镜的分辨率是由一次像来决定的,物镜是一个强励磁短焦距的透镜,它的放大倍数较高。中间镜是一个弱透镜,其焦距很长,放大倍数可通过调节励磁电流来改变,在电镜操作过程中,主要是利用中间镜的可变倍率来控制电镜的放大倍数。投影镜的作用是把中间镜放大(或缩小)的像进一步放大,并投影到荧光屏上,它和物镜一样,是一个短焦距的强磁电镜。而磁透镜的焦距可以通过线圈中所通过的电流大小来改变,因此它的焦距可任意调节。用磁透镜成像时,可以在保持物距不变的情况下,改变焦距和像距来满足成像条件,也可以保持像距不变,改变焦距和物距来满足成像条件。
在用电子显微镜进行图象分析时,物镜和样品之间的距离总是固定不变的,因此改变物镜放大倍数进行成像时,主要是改变物镜的焦距和像距来满足条件;中间镜像平面和投影镜物平面之间距离可近似地认为固定不变,因此若要荧光屏上得到一张清晰的放大像必须使中间镜的物平面正好和物镜的像平面重合,即通过改变中间镜的励磁电流,使其焦距变化,与此同时,中间镜的物距也随之变化。
大的景深和焦长不仅使透射电镜成像方便,而且电镜设计荧光屏和相机位置非常方便。
用爱瓦尔德图解法证明布拉格定律。
答:作一个长度等于1/λ的矢量K0,使它平行于入射光束,并取该矢量的端点O作为倒点阵的原点。然后用与矢量K0相同的比例尺作倒点阵。以矢量K0的起始点C为圆心,以1/λ为半径作一球,则从(HKL)面上产生衍射的条件是对应的倒结点HKL(图中的P点)必须处于此球面上,而衍射线束的方向即是C至P点的联接线方向,即图中的矢量K的方向。当上述条件满足时,矢量(K-K0)就是倒点阵原点O至倒结点P(HKL)的联结矢量OP,即倒格失
R*-K0=R*HKL得到了满足。即倒易点阵空间的衍射条件方程成立。
又由g*=R*HK
2sinθ1/λ=g*
2sinθ1/λ=1/d
2dsinθ=λ
证毕。
(类似解释:首先作晶体的倒易点阵,O为倒易原点。入射线沿O’O方向入射,且令O’O=S0/λ。以0’为球心,以1/λ为半径画一球,称反射球。若球面与倒易点B相交,连O’B则有O’B-S0/λ=OB,这里OB为一倒易矢量。因O’O=OB=1/λ,故△O’OB为与等腰三角形等效,O’B是一衍射线方向。由此可见,当x射线沿O’O方向入射的情况下,所有能发生反射的晶面,其倒易点都应落在以O’为球心。以1/λ为半径的球面上,从球心O’指向倒易点的方向是相应晶面反射线的方向。)
说明多晶、单晶及厚单晶衍射花样的特征及形成原理。
答:多晶衍射花样是晶体倒易球与反射球的交线,是一个个以透射斑为中心的同心圆环;单晶衍射花样是晶体倒易点阵去掉结构消光的倒易杆与反射球的交点,这些点构成平行四边形衍射花样;当单晶体较厚时,由于散射因素的影响会出现除衍射花样外的一明一暗线对的菊池衍射花样。
为何对称入射时,即只有倒易点阵原点在爱瓦尔德球面上,也能得到除中心斑点以外的一系列衍射斑点?
答:如果倒易点是几何点,那么对称入射时就没有倒易点落在厄瓦尔德球上。但是,由于电镜样品是薄样品,倒易点拉长成倒易杆。倒易杆与厄瓦尔德球相交可以产生衍射。
为什么TEM既能选区成像又能选区衍射?怎样才能做到两者所选区域的一致性。在实际应用方面有和重要意义?
答TEM成像系统主要是由物镜,中间镜和投影镜组成。
如果把中间镜的物平面和物镜的像平面重合,则在荧光屏上得到一幅放大像,这就是TEM的成像操作。
如果把中间镜的物平面和物镜的背焦面重合,则在荧光屏上得到一幅电子衍射花样,这就是TEM的电子衍射操作。
降低成像的像差,精确聚焦才能做到两者所选区域一致。实际应用中是通过选区衍射确定微小物相的晶体结构。
何谓衬度?TEM能产生哪几种衬度象,是怎样产生的,都有何用途
答:衬度是指图象上不同区域间明暗程度的差别。TEM能产生质厚衬度象、衍射衬度象及相位衬度象。质厚衬度是由于样品不同微区间存在的原子序数或厚度的差异而形成的,适用于对复型膜试样电子图象作出解释。晶体试样在进行电镜观察时,由于各处晶体取向不同和(或)晶体结构不同,满足布拉格条件的程度不同,使得对应试样下表面处有不同的衍射效果,从而在下表面形成一个随位置而异的衍射振幅分布,这样形成的衬度,称为衍射衬度。衍衬技术被广泛应用于研究晶体缺陷。如果透射束与衍射束可以重新组合,从而保持它们的振幅和位相,则可直接得到产生衍射的那些晶面的晶格象,或者一个个原子的晶体结构象。这就是相位衬度象,仅适于很薄的晶体试样(
≈100Å)。
画图说明衍衬成象原理,并说明什么是明场象,暗场象和中心暗场象。
答:在透射电子显微镜下观察晶体薄膜样品所获得的图像,其衬度特征与该晶体材料同入射电子束交互作用产生的电子衍射现象直接有关,此种衬度被称为衍射衬度,简称“衍衬”
•利用单一光束的成像方式可以简单地通过在物镜背焦平面上插入一个孔径足够小的光阑(光阑孔半径小于r)来实现。
•明场:•光栏孔只让透射束通过,荧光屏上亮的区域是透射区
•暗场:•光栏孔只让衍射束通过,荧光屏上亮的区域是产生衍射的晶体区
电子束和固体样品作用时会产生哪些信号?它们各具有什么特点?
答:具有高能量的入射电子束与固体样品表面的原子核以及核外电子发生作用,产生下图所示的物理信号:
1:背散射电子
背散射电子是指被固体样品中的原子核反弹回来的一部分入射电子,其中包括弹性背散射电子和非弹性背散射电子。弹性背散射电子是指被样品中原子核反弹回来的散射角大于90°的那些入射电子,其能量基本上没有变化。非弹性背散射电子是入射电子和核外电子撞击后产生非弹性散射而造成的,不仅能量变化,方向也发生变化。
背散射电子的产生范围在1000Å到1mm深,由于背散射电子的产额随原子序数的增加而增加,所以,利用背散射电子作为成像信号不仅能分析形貌特征,也可用来显示原子序数衬度,定性地进行成分分析。
2:二次电子
二次电子是指被入射电子轰击出来的核外电子。二次电子来自表面50-500Å的区域,能量为0-50eV。它对试样表面状态非常敏感,能有效地显示试样表面的微观形貌。由于它发自试样表面层,入射电子还没有较多次散射,因此产生二次电子的面积与入射电子的照射面积没多大区别。所以二次电子的分辨率较高,一般可达到50-100Å。扫描电子显微镜的分辨率通常就是二次电子分辨率。二次电子产额随原子序数的变化不明显,它主要决定于表面形貌。
入射电子进入样品后,经多次非弹性散射,能量损失殆尽(假定样品有足够厚度,没有透射电子产生),最后被样品吸收,此即为吸收电子。入射电子束射入一含有多元素的样品时,由于二次电子产额不受原子序数影响,则产生背散射电子较多的部位其吸收电子的数量就较少。因此,吸收电流像可以反映原子序数衬度,同样也可以用来进行定性的微区成分分析。
如果样品厚度小于入射电子的有效穿透深度,那么就会有相当数量的入射电子能够穿过薄样品而成为透射电子。样品下方检测到的透射电子信号中,除了有能量与入射电子相当的弹性散射电子外,还有各种不同能量损失的非弹性散射电子。其中有些待征能量损失DE的非弹性散射电子和分析区域的成分有关,因此,可以用特征能量损失电子配合电子能量分析器来进行微区成分分析。
特征X射线是原子的内层电子受到激发以后,在能级跃迁过程中直接释放的具有特征能量和波长的一种电磁波辐射。发射的X射线波长具有特征值,波长和原子序数之间服从莫塞莱定律。因此,原子序数和特征能量之间是有对应关系的,利用这一对应关系可以进行成分分析。如果用X射线探测器测到了样品微区中存在某一特征波长,就可以判定该微区中存在的相应元素。
如果原子内层电子能级跃迁过程中释放出来的能量DE不以X射线的形式释放,而是用该能量将核外另一电子打出,脱离原子变为二次电子,这种二次电子叫做俄歇电子。因为每一种原子都有自己特定的壳层能量,所以它们的俄歇电子能量也各有特征值,一般在50-1500eV范围之内。俄歇电子是由试样表面极有限的几个原于层中发出的,这说明俄歇电子信号适用于表层化学成分分析。
扫描电子显微镜的分辨率和信号种类有关?试将各种信号的分辨率高低作一比较。
答:
:
信号
二次电子
背散射电子
吸收电子
特征x射线
俄歇电子
分辨率
5-10
50-200
100-1000
100-1000
5-10
二次电子和俄歇电子的分辨率最高,而特征x射线调制成显微图象的分辨率最低.
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如图:
表面形貌衬度和原子序数衬度各有什么特点?
答:表面形貌衬度是由于试样表面形貌差别而形成的衬度。利用对试样表面形貌变化敏感的物理信号调制成像,可以得到形貌衬度图像。形貌衬度的形成是由于某些信号,如二次电子、背散射电子等,其强度是试样表面倾角的函数,而试样表面微区形貌差别实际上就是各微区表面相对于入射电子束的倾角不同,因此电子束在试样上扫描时任何两点的形貌差别,表现为信号强度的差别,从而在图像中形成显示形貌的衬度。二次电子像的衬度是最典型的形貌衬度。由于二次电子信号主要来自样品表层5-10nm深度范围,它的强度与原子序数没有明确的关系,而仅对微区刻面相对于入射电子束的位向十分敏感,且二次电子像分辨率比较高,所以特别适用于显示形貌衬度。
原子序数衬度是由于试样表面物质原子序数(或化学成分)差别而形成的衬度。利用对试样表面原子序数(或化学成分)变化敏感的物理信号作为显像管的调制信号,可以得到原子序数衬度图像。背散射电子像、吸收电子像的衬度都含有原子序数衬度,而特征X射线像的衬度就是原子序数衬度。粗糙表面的原子序数衬度往往被形貌衬度所掩盖,为此,对于显示原子序数衬度的样品,应进行磨平和抛光,但不能浸蚀。
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答:因为X射线强度取决于结构因子F,而结构因子会因晶胞中的原子位置和种类而不同。所以说X衍射线束的强度与晶胞中的原子位置和种类有关。
?可否认为有了电子衍射分析手段,X射线衍射方法就可有可无了?
答:电子衍射与X射线衍射一样,遵从衍射产生的必要条件和系统消光规律,但电子是物质波,因而电子衍射与X射线衍射相比,又有自身的特点:
(1)电子波波长很短,一般只有千分之几nm,而衍射用X射线波长约在十分之几到百分之几nm,按布拉格方程2dsinθ=λ可知,电子衍射的2θ角很小,即入射电子和衍射电子束都近乎平行于衍射晶面;
(2)由于物质对电子的散射作用很强,因而电子束穿透物质的能力大大减弱,故电子只适于材料表层或薄膜样品的结构分析;
(3)透射电子显微镜上配置选区电子衍射装置,使得薄膜样品的结构分析与形貌有机结合起来,这是X射线衍射无法比拟的特点。
但是,X射线衍射方法并非可有可无,这是因为:X射线的透射能力比较强,辐射厚度也比较深,约为几um到几十um,并且它的衍射角比较大,这些特点都使X射线衍射适宜于固态晶体的深层度分析。
?影响晶体消光距离的主要物性参数和外界条件是什么?
答:消光距离:由于透射波和衍射波强烈的动力学相互作用结果,使I0和Ig在晶体深度方向上发生周期性的振荡,此振荡的深度周期叫消光距离。
影响因素:晶胞体积,结构因子,Bragg角,电子波长。
?如何来消除和减少像差?
答:像差分为球差,像散,色差.
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