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薄膜物理与技术
薄膜物理与技术
薄膜物理与技术
PhysicsandTechnologyofThinFilms
课程编号:07370110
学分:2
学时:30(此中:授课学时:30实验学时:0上机学时:0)
先修课程:大学物理,一般化学
适用专业:无机非金属资料工程(光电资料与器件)
教材:《薄膜物理与技术》,杨邦朝,王文生主编,电子科技大学第一版社,1994
年1月第1版
开课学院:资料科学与工程学院
薄膜科学是现代资料科学中及其重要且发展特别快速的一个分支,已成为微电
子学、固体发光、光电子学等新兴交织学科的资料基础,同时薄膜科学研究成就转
化为生产力的速度越来越快,国内外对从事薄膜研发和生产的人材需求也日趋强烈。
本门课程就是为适应学科发展,学生适应市场需求而设置的专业课程。
课程的基本任务是:
1、基本掌握各样成膜技术的基本源理和方法;
2、认识并初步掌握薄膜的形成、构造与缺点,薄膜的电学、力学、半导体、磁学等物理性质。
第一章真空技术基础
1、教课内容
(1)真空的基本知识
(2)稀少气体的基天性质
(3)真空的获取及丈量
2、教课要求
理解真空的基本知识和稀少气体的基天性质,掌握真空的获取、主要手段和真空度
策略方法,认识适用真空系统。
第二章真空蒸发镀膜
1、教课内容
(1)真空蒸发原理
(2)蒸发源的蒸发特征及膜厚分布
(3)蒸发源的种类
(4)合金及化合物的蒸发
(5)膜厚和堆积速率的丈量与监控
2、教课要求
掌握真空蒸发原理,掌握真空镀膜的特色和蒸发过程,理解饱和蒸汽压和蒸发源
的发射特征,娴熟掌握蒸发速率、薄膜厚度的丈量和控制,认识蒸发镀膜的常用方
法(电阻加热和电子束加热),认识合金膜及化合物摸的蒸镀。
第三章溅射镀膜
1、教课内容
(1)溅射镀膜的特色和基本源理
(2)溅射镀膜的种类
2、教课要求
掌握溅射镀膜的基本源理和特色,理解表征溅射特征的参量及其影响要素,认识
溅射机理及溅射镀膜的各样种类
第四章离子镀膜
1、教课内容
1)离子镀的原理和特色
2)离子轰击的作用
3)离子镀的种类
2、教课要求
掌握离子镀的基本源理和特色,理解离子轰击的作用,认识离子镀的种类。
第五章化学气相堆积
1、教课内容
1)化学气相堆积的基本源理和特色
2)化学气相堆积工艺简介
3)化学气相堆积的种类(低压、等离子体及其余)
2、教课要求
掌握化学气相堆积(CVD)的原理、特色和应用,理解化学气相反响的热力学和动力学过程及影响要素,认识CVD方法的基本反响种类,认识低压化学气相堆积(LPCVD)、有机金属化合物化学气相堆积(MOCVD)。
第六章溶液镀膜法
1、教课内容
1)化学反响堆积
2)阳极氧化法
薄膜物理与技术
薄膜物理与技术
薄膜物理与技术
3)电镀法
4)溶胶凝胶法
5)LB膜的制备
2、教课要求
认识化学反响堆积、阳极氧化法、电镀法镀膜的原理及特色,认识溶胶凝胶法的工艺过程,认识LB膜的分类及制备方法。
第七章薄膜的形成
1、教课内容
1)凝固过程
2)核形成与生长
3)薄膜形成过程与生长模式
4)溅射薄膜的形成过程,薄膜的外延生长
5)薄膜形成过程的计算机模拟
2、教课要求
理解表面吸附和脱附,娴熟掌握薄膜的成核及生长过程,掌握薄膜生长过程中的热力学行为,认识薄膜生长的三种常有方式,认识各样模拟薄膜生长的计算机模型。
第八章薄膜的构造与缺点
1、教课内容
1)薄膜的构造
2)薄膜的缺点
3)薄膜构造与组分的分析方法
2、教课要求
掌握晶体的表面构造、理解薄膜的外延生长及界面构造,理解薄膜制备过程与薄膜晶体构造之间的关系,掌握薄膜的几种主要缺点(点缺点、线缺点和面缺点),认识薄膜构造与组分的表征方法。
第九章薄膜的性质
1、教课内容
1)薄膜的力学性质
2)金属薄膜的电学性质
3)介质薄膜的电学性质
4)半导体薄膜的性质
薄膜物理与技术
薄膜物理与技术
薄膜物理与技术
2、教课要求
掌握薄膜的力学性质及影响要素,掌握金属薄膜和介质薄膜的电学性质,认识半导体薄膜的性质,认识薄膜的其余性质(超导、磁性、超硬)。
章节
授课
实验
上机
第一章真空技术2
基础
第二章
真空蒸发
4
镀膜
第三章溅射镀膜
4
第四章离子镀膜
2
第五章
化学气相
6
堆积
第六章
溶液镀膜
2
法
第七章
薄膜的形
4
成
第八章
薄膜的结
2
构与缺点
第九章
薄膜的性
4
质
1、薄膜科学在现代资料科学中发展极为快速,教师应关注较新的研究进展,适
当介绍些新的制备技术及应用状况;
2、每章内容结束后部署几道相应的思虑题,增强学生对教课内容的掌握。
1、《薄膜制备原理、技术及应用》第二版,唐伟忠著,冶金工业第一版社,1998
薄膜物理与技术
薄膜物理与技术
薄膜物理与技术
年5月第
1版。
薄膜物理与技术
薄膜物理与技术
薄膜物理与技术
2、《薄膜物理》,薛增泉著,电子工业第一版社,
1991年9月第
1版。
薄膜物理与技术
薄膜物理与技术
薄膜物理与技术
制定人:
姜燕
判定人:李浩华
同意人:
薄膜物理与技术
薄膜物理与技术
薄膜物理与技术
2013年
6月日
薄膜物理与技术
薄膜物理与技术
薄膜物理与技术
课程简介
课程编码:07370110
课程名称:薄膜物理与技术
英文名称:PhysicsandTechologyofThinFilms
学分:2
学时:30(此中:授课学时:30实验学时:0上机学时:0)
课程内容:本课程《薄膜物理与技术》的主要内容包含有真空技术基础,真空
蒸发镀膜,溅射镀膜,离子镀膜,化学气相堆积,溶液镀膜,薄膜的形成,薄膜的构造与缺点和薄膜的性质等知识点。
选课对象:无机非金属资料工程(光电资料与器件)专业本科二年级学生
先修课程:大学物理,一般化学
教材:《薄膜物理与技术》,杨邦朝,王文生主编,电子科技大学第一版社,1994年1月第1版。
薄膜物理与技术
薄膜物理与技术
薄膜物理与技术