文档介绍：直流磁控溅射在铝衬底上沉积(TixAly)N薄膜及其性能研究
Growth and Mechanical Properties of(TixAly)N Coatings Deposited by DC ron Sputtering on Al Alloys
摘要:
本文利用独立钛靶,,利用薄膜测厚仪和显微硬度计对薄膜的厚度和硬度进行测量,通过光学金相显微镜及场发射扫描电子显微镜,,以独立钛靶在铝衬底表面可以生成(TixAly)、,、致密性和表面平整度.
作者:
王齐伟    左秀荣    黄晓辉    史新伟    倪培相
作者单位:
郑州大学物理工程学院,材料物理教育部重点实验室,郑州,450052
期刊:
真空科学与技术学报   ISTICEIPKU
Journal:
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY
年,卷(期):
2008, 28(4)
分类号:
TB742
关键词:
磁控溅射     (TixAly)N     薄膜     性能    
机标分类号:
TN4 TB3
机标关键词:
直流磁控溅射    衬底表面    薄膜测厚仪    性能研究    Mechanical Properties    Al Alloys    表面平整度    显微硬度计    扫描电子显微镜    光学金相显微镜    强化合金    射线衍射仪    微观组织    利用    观察    薄膜质量    表面硬度    表面镀覆    致密性    相组成
基金项目:
河南省科技攻关项目,河南省教育厅自然科学研究项目
续快速常压化学气相沉积法制备TiO2自清洁镀膜玻璃
Fast Coating of TiO2 on Glass by Chemical Vapor Deposition at Atmospheric Pressure
摘要:
以四异丙醇钛(TTIP)为先驱体,采用常压化学气相沉积(APCVD)法模拟镀膜工艺过程,(SEM)、X射线衍射(XRD)、紫外-可见透射光谱(UV-Vis)等手段对样品进行分析,,当基板温度升高至580 ℃时,能够形成平整致密的薄膜,薄膜的结晶度,光催化性能和亲水性能也达到最好; m/min时,薄膜的结晶度,,表明沉积TiO2薄膜的最佳条件为基板温度580℃, m/min.
作者:
翁伟浩    宋晨路    翁文剑    刘军波    应益明    韩高荣    Weng Weihao    Song Chenlu    Weng Wenjian   Liu Junbo    Ying Yiming    Han Gaorong
作者单位: