第三章(二次更).ppt

文档介绍：材料合成与制备方法
聊城大学
材料科学与工程学院
第三章薄膜的制备
本章主要内容
基片及其处理方法
物理气相沉积(真空蒸镀)
溅射成膜
化学气相沉积
三束技术
溶胶-凝胶技术
薄膜材料基础
(1). 薄膜材料的概念
采用一定方法,使处于某种状态的一种或几种物质(原材料)的基团以物理或化学方式附着于衬底材料表面,在衬底材料表面形成一层新的物质,这层新物质就是薄膜。
简而言之,薄膜是由离子、原子或分子的沉积过程形成的二维材料。
(2). 薄膜分类
(1)物态
(2)结晶态:
(3)化学角度
(4)组成
(5)物性
厚度,决定薄膜性能、质量
通常,膜厚< 数十μm, 一般在1μm 以下。
薄膜的一个重要参数
3. 薄膜应用
光学薄膜、集成电路、太阳能电池、液晶显示膜、光盘、磁盘、***硬化膜、建筑镀膜制品、塑料金属化制品

代表性的制备方法按物理、化学角度来分,有:
物理成膜 PVD
化学成膜 CVD
薄膜的生长过程分为以下三种类型:
(1) 核生长型
(2) 层生长型
(3) 层核生长型
薄膜的形成机理
(1) 核生长型
特点:到达衬底上的沉积原子首先凝聚成核,后续飞来的沉积原子不断聚集在核附近,使核在三维方向上不断长大而最终形成薄膜。
这种类型的生长一般在衬底晶格和沉积膜晶格不相匹配(非共格)时出现,大部分的薄膜的形成过程属于这种类型。