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AMOLED全面屏介绍.ppt

上传人:bdjigr52 2017/12/2 文件大小:1.03 MB

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AMOLED全面屏介绍.ppt

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文档介绍:AMOLED全面屏介绍
作成:危志滨
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日期:2017/11/30
AMOLED技术简介:
AMOLED技术简介
显示屏作为为用户带来直接感官体验的产品,对卓越性能的追求从未止步——高画质、超轻薄、长寿命、低功耗等均是衡量平板显示器产品的重要指标。AMOLED (Active anic Light Emitting Diode),即有源矩阵有机发光二极体显示面板,以其卓越画质、轻薄外形、宽温操作、户外可视、节能省电等特性,尤其是在健康护眼方面的巨大优势,得到了业界的广泛关注,有望成为继阴极射线管显示技术(CRT),液晶显示技术(LCD)之后的第三代主流显示技术。
AMOLED基本原理:
1. 发光原理
OLED器件结构为阳极、金属阴极以及夹在中间的有机功能层,呈现三明治结构。常规有机功能层包括空穴传输层,电子传输层,有机发光层。当对OLED器件施加电压时,电子和空穴分别从阴极和阳极注入到电子传输层与空穴传输层中,电子和空穴在发光层中复合形成单线态或三线态激子,激子经辐射衰变以光子形式发出。
AMOLED基本原理:
2. 驱动模式
OLED驱动模式分为被动(PMOLED)与主动(AMOLED)两种。PMOLED的结构简单,每个像素点由分立的阴极阳极控制,不需要额外的驱动电路,但是太多的控制线路限制其在大尺寸高分辨率屏幕上的应用。AMOLED则是通过驱动电路来驱动发光二极管,最大程度的减少了控制线路的数量,使其具备低能耗,高分辨率,快速响应和其他优良光电特性,因此AMOLED逐渐成为OLED显示的主流技术。
高分辨率AMLOED的驱动电路越来越小,但是相应的电学性能要求则越来精高,所以常规的非晶硅技术已经很难满足新的需求。低温多晶硅(LTPS)则可以迎合新的发展要求,其核心技术是将非晶硅经过”准分子激光晶化法”形成多晶硅。低温多晶硅相较于非晶硅有着更高的载流子迁移率,更低的缺陷密度,以及更好的电学特性。
AMOLED器件结构:
AMOLED器件结构
LTPS-AMOLED的与LCD的结构在驱动电路的结构基本相同,但由于AMOLED是自发光结构,不需要背光源,因此体积更轻薄。同时,也由于自发光的特性,使得暗画面下的功耗远低于LCD的背光恒定功耗,使AMOLED显示面板拥有节能的特性。
AMOLED器件结构:
AMOLED器件结构
AMOLED也拥有底发光与顶发光两种结构。顶发光结构中,光线不会受到驱动电路的遮挡,相比底发光结构拥有更高的开口率,从而在高解析度的应用中具有更大的优势,因此逐渐成为了AMOLED的主流。
AMOLED工艺流程:
AMOLED工艺流程
LTPS-AMOLED的制作工艺囊括了显示面板行业的诸多尖端技术,其主要分为背板段,前板段以及模组段三道工艺。背板段工艺通过成膜,曝光,蚀刻叠加不同图形不同材质的膜层以形成LTPS(低温多晶硅)驱动电路,其为发光器件提供点亮信号以及稳定的电源输入。其技术难点在于微米级的工艺精细度以及对于电性指标的极高均一度要求。
.镀膜工艺是使用镀膜设备,用物理或化学的方式将所需材质沉积到玻璃基板上(2);
.曝光工艺是采用光学照射的方式,将光罩上的图案通过光阻转印到镀膜后的基板上(3、4、5);
.蚀刻工艺是使用化学或者物理的方式,将基板上未被光阻覆盖的图形下方的膜