文档介绍：流体调节的制作方法
专利名称：流体调节的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种在具有至少一个流体调节器的流体网络中预测、校验、测定和/或控制液面的方法，特别地涉及，但不局限于，一种在具有多个流体调节器的管道系统中预测、校验、测定和/或控调节器位置/移动以利用可利用的水资源。
为了使本发明更易于理解和实施，现参考附图，其中图1示意地表示了沿包括流体调节器的河流或管道系统的中心线的剖面；图2模块化地表示了对图1所示的河流或管道系统的模拟；图3为一框图，显示了图1和图2所示系统的接口。
具体实施例方式
为了帮助理解本发明，在本说明书的结尾附有术语表。在整个说明书及附图中，相似的整体采用了相同的参考标记，以避免赘述。
图1示出了具有底板12的管道系统10，水14可以顺着该管道沿箭头15的方向流动。沿该管道系统分布有多个控制顺着管道方向的水流的水调节器16和18。水调节器16和18最好为如我们的待审的澳大利亚专利申请第PQ 9554号和第PR 1217号(现在国际申请号为PCT/AU01/01036)中所示类型的上射型闸门，这里将上述专利申请的内容结合到本说明书中。典型的上射型闸门具有绞接在底部的闸门，如图中20和22处所示。该些闸门可以绕枢轴旋离垂直位置至朝向底板12的任何角度位置，在垂直位置时闸门处于关闭且没有水流动，在其它任何角度时由于水流过闸门的顶部，故而可通过调节闸门的角度来决定流速。在本优选实施例中，示出了两个闸门，但是本发明可以应用于单个或多于两个闸门的情况。水位传感器24、26、28和29被设置在管道10中以监视从相同基准点算起的水位高度。传感器24位于闸门16的上游方向，而传感器26位于闸门16的下游方向。类似地，传感器28位于闸门18的上游方向，这里不一而足。水位传感器24、26、28和29应该具有高精度，水位绝对测量误差小于1厘米。典型的传感器可以为超声型的或压力型的。超声型传感器基于测量声纳波(sonarwave)经过安放在水面上方的传感器并被从表面反射回传感器所花费的时间。这种类型的传感器例如为Milltronics公司制造的“探针(Probe)”系列和Hawk Measurement System公司制造的“LP”系列。压力型传感器测量表面下的水压以获得从水下传感器至水面的距离。该些传感器例如为Greenspan公司制造的“PS200”系列和Hawk Measurement System公司制造的“PCS”系列。每个闸门16和18具有一传感器(未示出)以确定相同基准点上方各个闸门顶部的高度，如图中30和32处所示。闸门位置通常通过将一传感器安装到闸门驱动装置(未示出)上来确定，其使得闸门驱动装置内轴的旋转位置与闸门的实际位置相关。通常采用根据旋转位置输出数字信号的电位装置或编码器来确定旋转位置。传感器并不局限于所述的传感器，视环境而定可以用其它类型传感器替换。所有的传感器最好连接到数据录入设备、计算机或类似设备以允许实时收集传感器的输出。
从传感器收集到的数据可以加以分析来产生一用于管道系统10的模型，以精确预测沿管道系统的水位。该软件可分成模块，通常每个模块描述管道系统10的一段并连接一段下游管道的调节器/闸门至另一调节器/闸门，或液面传感器。利用管道的实际拓扑结构，模块串联描述了完整的管道/河流系统。这是一个重要特