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高质量ZnO基透明导电薄膜的制备及其特性研究的中期报告.docx

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高质量ZnO基透明导电薄膜的制备及其特性研究的中期报告.docx

上传人:niuwk 2024/4/24 文件大小:10 KB

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文档介绍:该【高质量ZnO基透明导电薄膜的制备及其特性研究的中期报告 】是由【niuwk】上传分享,文档一共【2】页,该文档可以免费在线阅读,需要了解更多关于【高质量ZnO基透明导电薄膜的制备及其特性研究的中期报告 】的内容,可以使用淘豆网的站内搜索功能,选择自己适合的文档,以下文字是截取该文章内的部分文字,如需要获得完整电子版,请下载此文档到您的设备,方便您编辑和打印。高质量ZnO基透明导电薄膜的制备及其特性研究的中期报告本次研究的目的是制备高质量的ZnO基透明导电薄膜,并研究其特性,为开发透明导电材料提供基础研究支持。一、制备方法采用溶胶-凝胶法制备ZnO基透明导电薄膜。具体步骤如下::将Zn(NO3)2·6H2O和乙醇按1:10质量比进行混合,搅拌均匀,加入少量HNO3和DI水,再搅拌30min,最后过滤得到透明的溶胶。:选用Si基板,并使用玻璃切割机将其切成1cm×1cm的大小。:将制得的溶胶均匀涂覆在基板表面,,并在室温下干燥24h。:将干燥后的样品置于炉中,升温至500℃,恒温5h,使溶胶中的物质充分热化,形成ZnO晶体,完成烧结过程。二、结果分析通过扫描电镜(SEM)观察样品表面形貌,得知ZnO薄膜表面平整光滑,并且具有微米级别的结构,烧结后的晶体质量较好,表现出良好的结晶性。透射电镜(TEM)进一步证明了样品的结构,可以看到ZnO晶体在样品中分布均匀,结晶度高,晶粒尺寸在50~100nm范围内。X射线衍射(XRD)分析证明样品晶体为wurtzite型ZnO结构,°,°°。同时,透过率测试发现ZnO薄膜在400~800nm波长范围内的透过率达到80%以上,表现出良好的透明性能。三、结论本研究成功制备出高质量的ZnO基透明导电薄膜,并具有良好的透明性能和结晶性,可为透明导电材料的开发提供基础研究支持。下一步将对其导电性能进行测试和分析。