文档介绍：PVD磁控溅射镀膜(装饰镀)生产工艺流程
貨件入真空室
抽空加熱處理
洗靶
離子清洗
成膜
冷卻
貨件出爐
清潔真空室
抽空
抽空: 根据薄膜的要求,真空度的高低对膜层质量起着至关重要的作用。针对我厂所生产的货件,×10-3Pa(抽空时长约30~60分钟).
抽空加热
抽空加热: 在达到一定真空度的情况下(比如: ×10-2Pa)开启加热,并开转架.
目的: 对货件及真空室内进行烘烤处理,可减少或消除其表面所吸附的气体,从而可提高膜层的质量和性能,但必须注意:
在真空度达到所要求的范围时,才可开启加热,这样可避免货件表面被氧化.
加热开启的同时必须开启转架。
洗靶
洗靶(也称点靶): 在真空度达到一定范围的情况下(×10-3~×10-3Pa)才可开靶,对靶面进行清洁处理.(本公司部分机器由于没有小车挡板,需要单独进行洗靶).
目的: 清除靶材吸附的气体及清洁靶表面的镀层.
离子清洗
离子清洗: 工件在预热处理后,表面仍会有一定的脏污存在,或许也有轻微的氧化层,,同时工件加上负偏压后引起辉光放电,被离化的Ar离子在电场的作用下,高能量的轰击工件,而达到把工件表面的脏污溅射出去,起到清洁和活化货件表面的目的.
成膜
成膜: 当工作气体氩气的压强达到一定时,开靶,并充入适量的反应气体进行溅射,,通入氮气(N2)、氧气(O2)、甲烷(CH4)、乙炔(C2H2)、一氧化碳(CO)等气体得到氮化物膜、氧化物膜、碳化物膜等.
成