文档介绍：上海交通大学
硕士学位论文
干法刻蚀制程工艺及相关缺陷的分析和改善
姓名:张新言
申请学位级别:硕士
专业:平板显示
指导教师:李荣玉;陈勤达
20090901
上海交通大学工程硕士学位论文摘要
干法刻蚀制程工艺及相关缺陷的分析和改善

摘要

液晶显示的广泛应用已经使其取代了 CRT,成为如今显示和电视
设备的最主要的显示技术,丰富了人们的日常生活,并为信息的交流
和传输做出了巨大的贡献。随着国内新一轮高世代生产线的相继建设
投产,面对日益激烈的竞争,如何降低缺陷、提高产品的品位,这就
需要对 LCD 制程工艺有着更高的要求。
本文首先总体介绍了液晶显示的发展和现状,液晶显示器的制成
流程,侧重讲述了阵列(array)的制作工艺流程和工艺设备,然后
对干法刻蚀中的工艺设备进行详细说明。基于节约空间和提高效率的
考虑,行业内对于金属层的刻蚀普遍采用干法刻蚀的方式,但生产节
拍的加快,缺陷也随之而来。干法刻蚀中影响产品品质的主要因素为:
杂质颗粒、RF 电源、排气速度和真空度,其中生产节拍的加快对前
两因素的影响最为重大。在上海广电 NEC 工厂的 15-26 英寸工艺设备
进行实验并取得数据,绘制成趋势图,通过各种方法的结果的比对,
找出了干法刻蚀的最佳条件,重点针对干法刻蚀设备中的工艺缺陷进
行分析和跟踪,找出相关的对策,解决了生产中遇到的实际问题:
(1)对于基板“冒烟”问题的解决对策是:对量产基板进行大
批量的对比观察,找出问题的发生原因:刻蚀后除静电过程中生成物
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上海交通大学工程硕士学位论文摘要
附着于装载腔室。从而进一步通过更改使用的工艺气体解决了
“冒烟”问题。
(2)对于刻蚀残留问题的解决对策是:
DUMMY CLEAN RECEIPE 对腔室进行清扫,通过对比观察,
找出最合理的清扫间隔;
,调整 RF 的输出功率,通过对比,得出
比较合理的 RF 功率。
本文的实验结果及结论已经在干法刻蚀制程中得以应用。

关键词:面板,阵列,干刻,等离子体,排气速度
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上海交通大学工程硕士学位论文 ABSTRACT
DRY-ETCH PROCESS, FAULT ANALYSE AND
IMPROVEMENT

ABSTRACT

Liquid crystal display has been widely used to replace the CRT
display and TV equipment, as is now the most important display
technology to enrich people's daily lives and it has made a great
contribution to the exchange and transfer of information. In the face of
increasingly petition, how to improve product quality to reduce
defects, which need to LCD manufacturing process technology have
higher requirements.
This paper presented an overview of the development and current
status of liquid crystal display, as well as LCD production processes, and
highlighted the plight of the array of process and technology. Based on
space-saving and efficiency considerations, the industry for etching metal
monly uses dry etching, but to speed up the production of
rhythm, defects are also followed. In Dry etching, the main factors
affecting product quality are: impurity particles exhaust speed, vacuum
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