文档介绍：doi:.1007-,戴培华2,席博2(1兰州理工大学材料学院,兰州730050;,兰州730050)摘要:采用射频磁控溅射法在Si(111)上制备出LaNiO3薄膜,并通过XRD、SEM等进行表征。结果表眀,LaNiO3薄膜在未退火状态下出现一定的择优取向,在空气中随着退火温度的增加,结晶性更好,出现钙钛矿型结构;900℃退火时出现杂相,LaNiO3发生分解导致薄膜表面形貌发生巨大变化。电阻率与结构中的氧空位有密切联系,退火温度增加,氧空位减少,电阻率减小。在700℃·cm的最小电阻率。关键词:LaNiO3;薄膜;退火温度;显微组织;电阻率中图分类号:TB34 文献标志码:A 文章编号:1007-7545(2013)11-0000-00EffectofAnnealingTemperatureonStructureandResistivityofLaNiO3FilmFENGZhi-qi1,DAIPei-hua2,XiBo2(,LanzhouUniversityofTechnology,Lanzhou730050,China;-FerrousMaterials,LanzhouUniversityofTechnology,Lanzhou730050,China)Abstract:LaNiO3thinfilmswerepreparedonSi(111)ronsputtering(RFMS),thebetterthefilm’scrystallinityis,℃,urs,,·cmisobtainedinfilmwhenannealedat700℃.Keywords:LaNiO3;film;annealingtemperature;resistivity氧化物薄膜在高温超导、铁电、巨磁阻效应领域有着广泛的应用前景[1],这类氧化物的性能与其结构和形貌有密切联系[2-3]。LaNiO3是一种导电的金属性化合物,具有准立方的钙钛矿型结构[