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GaN及GaN基薄膜制备、表征和特性研究.pdf

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上传人:1322891254 2015/10/12 文件大小:0 KB

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GaN及GaN基薄膜制备、表征和特性研究.pdf

文档介绍

文档介绍:摘要的方法进行氮化镓���突�贕�的若干薄膜的制备沉积和原位掺杂,包括氮化镓���⒉纛锏;����篍�、掺镨氮化镓��:��缺∧ぃ��从靶材转移到衬底上的薄膜制备方法,已有很多成功的应用。��⒉ǚ诺缡�在低工作气压下对气体进行放电产生密度高、电离度高、��靶,用��5壤胱犹甯ㄖ�穆龀寮す獬粱�椒ㄔ诘臀孪潞铣芍票噶�换红外光���谱和可见波段透射谱等表征分析方法都从不同角度证实我们基质材料。从材料制备上看,目前较多的尝试是采用稀土注入和薄膜生长过程中的原位掺杂,包括分子束外延、液相外延和金属有机化学气相沉积等。尽管它们提高掺杂浓度等问题。本论文采用��壤胱犹甯ㄖ�乃ḿす馑ò泄采帐捶椒�本文的主要内容是利用脉冲激光烧蚀��������,��产生的激光等离子体和电子回旋共振����������瓻��⒉ǚ诺绲牧:�作用,尝试用��壤胱犹甯ㄖ�龀寮す獬粱����������.��的方法和由此发展的��ㄖ�ḿす馑ò新龀寮す馍帐�及�衬底上缓冲层的沉积和缓冲层对生长��∧さ挠跋臁�脉冲激光沉积���抢�眉す馓匦远圆牧辖�猩帐床⒁缘壤胱犹宓男问�两种技术结合在一起发展成��甈�这种新的薄膜制备方法,它综合了���膜和��⒉ǚ诺绲壤胱犹宓奶氐悖�室擞诘臀绿跫�禄�衔锏暮铣捎氡∧さ�生长,并由此提出了��壤胱犹甯ㄖ�ḿす馑ò新龀寮す馍帐吹幕�衔锉∧���且恢种苯哟�兜腎�.�灏氲继宀牧希�椅陆��矶任�.���且�种很有前途的短波长光电子材料,具有耐高温、耐腐蚀、饱和速率大、热导性好等特点,使��牧虾虶�基器件具有广阔的应用潜力和良好的市场前景。本论文以多晶��为靶材料,在活性��5壤胱犹寤肪持杏寐龀寮す馍帐炊���∧ぃ�吣芾胱颖成⑸����谱,�湎吖獾缱���谱,傅立叶变使用��甈�的方法制备得到了高纯度的��∧ぁ�稀土������琑�元素由于其独特的光学性质而具有许多重要的光电子学应用,包括制作光通讯元件、光存储和光显示、固体激光器等器件的材料。��族氮化物半导体由于宽的直接能隙和高的光学激活等特性,是稀土掺杂的理想的都有独到之处,但存在或容易造成基质材料的损伤与注入不均匀的问题,或不易进行基质��げ愕某粱�拖⊥猎K氐脑�徊粼樱�诒U暇�炔粼拥幕�∩希�有效控制样品的掺杂浓度和均匀性。在��甈�制备��∧さ幕�∩希�昧�一束激光烧蚀稀土元素靶材�铮��,实现化合物薄膜和原位掺杂的同步实现.��癎�基薄膜的制备、表征和特性研究������������复旦大学硕士学位论文
备了��∧ず陀肊�.��椒ㄖ票噶耍痥�薄膜,作为�衬底上��∧さ�,选择了与���狪Ⅱ族氮化物的��魑;撼宀�材料进行��撼宀闵螱�薄膜的制备,并初步研究了缓冲层对��∧さ挠�后期热退火是改善薄膜特性的常用方法,我们对制备得到的��盗斜∧�面探索了将激光和��壤胱犹褰岷掀鹄丛诓牧现票干系挠τ茫�捕员甘芄刈�关键词:氮化镓,稀土掺杂氮化镓,缓冲层,脉冲激光烧蚀,电子回旋共振微波放电,等离子体辅助沉积�衬底和��盗斜∧ご嬖诔牡缀湍げ慵渚Ц袷�浜腿仁�涞奈侍猓�鲜�的缓冲层是解决这类问题的途径之一,本论文尝试用双激光双靶��姆椒ㄖ�进行了相关热退火操作并初步研究了热退火对薄膜特性的影响。本论文通过几种薄膜材料的制备,辅以缓冲层材料和后期热退火处理,一方的��盗胁牧系奶匦越�辛讼喙匮芯浚�中图分类号:���.����癎�基薄膜的制备、�
心�����嘲��������������甌�����痗��������������������������������������,�������甒��������·�����癎�基薄膜的制备、表征和特性研究摘要���������������������瑃���,��������琗�,��瑆����珿�:���:����瑆�����瓻����.������.�����珿�����,�������,��������.���猇���.����,�����瓽������.������瑂������甈������.�复旦大学硕士学位论文
痵������������������.����������������������甒���.��癎�基薄膜的制备、表征和特性研究摘要����������瓸�����������:�������,����������.��������粀����瑆�����,����篏������琤�������,�������琾��������瑆�������������狿�����痯�������������复旦大学硕士学位论文
第一章引言法很快在��年得到了���蚑���热说闹し��5�诖撕蟮亩��嗄昀铮���脉冲激光

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