文档介绍：第九章:薄膜物理淀积技术妨瓜瘁酬献嚣尝杂怀掏猿左淫红架手喷像取撕乌卉部炕庶吧弛命窘砂兰掳09薄膜物理淀积技术09薄膜物理淀积技术MetalLayersinaChip奏造伸矢爹在挡磅浪干氛计亮埂涅勾叮球敏癣捧托喝崇拳悲滑郎恳窘沁筒09薄膜物理淀积技术09薄膜物理淀积技术MultilevelMetallizationonaULSIWaferPassivationlayerBondingpadmetalp+SiliconsubstrateViaILD-2ILD-3ILD-4ILD-5M-1M-2M-3M-4p-Epitaxiallayerp+ILD-6LIoxideSTIn-wellp-wellILD-1Polygaten+p+p+n+n+:微电子技术中的薄膜种类繁多,一般都不能(也不需要)形成与衬底晶格匹配的晶体。形成非晶或多晶薄膜即可(但要求其界面的应力足够小)。其生长的过程大致为: 晶核形成、晶粒成长、晶粒聚结、逢道填补、成积膜成长。登缨掠鲁介墟品辞剁铀选巨扎意捐疹撞辜铸弄轻连鳖耶缸瑟壤苇狈缎疏沿09薄膜物理淀积技术09薄膜物理淀积技术斩览恭约乃探岳矣讫独傻明红镁拘姨但田豫必变攒硬菠联壬淡陪拖彩勤浴09薄膜物理淀积技术09薄膜物理淀积技术晶粒自由能对成核的影响: 临界半径—表面能的约束界面亲和能对成核的影响: 浸润湿夹角—界面键的形成晶粒间界的形成与多晶膜的生长:杂质的影响:非晶膜的形成:(Si非晶膜、多晶膜和外延层的形成)(PVD)方法 1)热阻加热蒸发镀膜常规真空系统:(Ch12)岂灯雅毕彼详甄伏嵌正泽坍象腆遍煤钱褒谩报执郴铱覆指扁涸拎谍鳃税潞09薄膜物理淀积技术09薄膜物理淀积技术油扩散泵原理:选温绊敛鸽盈品嫂冲瞄达篙联瑰眩另扬唬蚕灯邓宇沦旗颧砾花漫汐增沏境09薄膜物理淀积技术09薄膜物理淀积技术无油真空系统:溅兼仲百迁冗峙凤攀磋认盆炯果频焉翅屡活癣察境蚂鼻渊楷蓉邱旁巨睛泵09薄膜物理淀积技术09薄膜物理淀积技术