文档介绍:十醮笱硕士学位论文硅烷化处理对钴铬合金防腐蚀性学科、专业:研究生姓名:成思源中南大学二灰荒晡逶分类号密级编号论文题目:能的影响导师姓名:口腔临床医学陈蕾教授
密级——论文答辩日期竺堇:丛硕士学位论文硅烷化处理对钴铬合金防腐蚀性能的影响作者姓名:学科专业:学院邓:指导教师:成思源口腔临床医学口腔医学院陈蕾教授二灰荒晡逶中南大学分类号答辩委员
丝日期:型盟旺月日期:吐旺月季日作者签名:】亟墨邀导师签名:】亟墨趣原创性声明学位论文版权使用授权书本人声明,所呈交的学位论文是本人在导师指导下进行的研究工作及取得的研究成果。尽我所知,除了论文中特别加以标注和致谢的地方外,论文中不包含其他人已经发表或撰写过的研究成果,也不包含为获得中南大学或其他单位的学位或证书而使用过的材料。与我共同工作的同志对本研究所作的贡献均已在论文中作了明确的说明。作者签名:本人了解中南大学有关保留、使用学位论文的规定,即:学校有权保留学位论文并根据国家或湖南省有关部门规定送交学位论文,允许学位论文被查阅和借阅;学校可以公布学位论文的全部或部分内容,可以采用复印、缩印或其它手段保存学位论文。同时授权中国科学技术信息研究所将本学位论文收录到《中国学位论文全文数据库》,并通过网络向社会公众提供信息服务。
摘要目的:研究在不同硅烷水解值和电沉积时间下制备的硅烷膜对钴铬合金防腐蚀性能的影响。材料和方法:根据不同硅烷水解值~和电沉积时间用一跫ǖ缥怀粱际踉谑约砻娉粱票腹柰槟ぃ⒉捎玫缁学腐蚀法模拟在口腔环境下对沉膜前后钴铬合金的自腐蚀电位、自腐蚀电流密度进行测试。结果:等硅烷膜所含基团的伸缩振动峰。电子扫描显微镜显示试件缁Ц捶治鋈砑允荆柰榛碜榈淖愿吹缥桓哂诙哉钡绯粱奔湟欢ㄊ保煌墓柰樗鈖橹涞淖愿吹缥弧组,,自腐蚀电流密度组组。柰榛碜硅烷水解,电沉积时间和其余组的自腐蚀电位、自腐蚀电流密度的差别有统计学意义,其自腐蚀电位均高于其余组,自腐蚀电流密度均低于其余结论:捎靡跫ǖ缥怀粱际蹩稍陬芨鹾辖鸨砻嫘纬山衔V旅堋⒕鹊墓柰樗鈖偷绯粱奔涠怨柰榛砗箢芨鹾辖鸬姆栏葱阅影响较大。在硅烷水解为绯粱奔湮的硅烷将钴铬合金试件个随机分入鍪笛樽楹个空白对照组,馄淄伎晒鄄斓揭籗猄弧R弧。一、阂弧⒁籗弧表面电沉积所制得的硅烷膜结构较为致密均匀,当浸泡于人工唾液芎蟪赡な约砻嫖廾飨员浠闯赡な约砻嬖蚩杉酱罅黑色腐蚀产物和腐蚀坑。组,自腐蚀电流密度均低于对照组,。烷膜,其显著提高了钴铬合金的防腐蚀性能。化处理条件下,钴铬合金的防腐蚀性能相对较好。中文摘要
关键词硅烷化,钴铬合金,,电沉积,防腐蚀Ⅱ
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