文档介绍：中国科学院研究生院硕士学位论文△逝遗逡式堂刻撞苤硒究区迸刻笾真箍邈遮让筮鲑珏筮生国叠堂院电王硒究压鬻亟±学科专业名称电力电壬及电力焦动史题塞送康申请学位级别论文提交日期论文答辩日期培养单位学位授予单位分类号密级编号
皇焦饪碳际跹芯考胺抡娓ㄖ杓迫砑7摘要浸没式光刻的原理是:在物镜的最后一个透镜与抗蚀剂和硅片之间充满高折射率液体,使数值孔径能够大于佣迪至颂岣叻直媛省⒃龃蠼股畹哪康摹目前,国际上普遍认为:皇焦饪碳际踅窃节点实现大规模生发出了国际商品软件不具有的、国内第一款光刻仿真软件,并物镜的数值孔径和照明相干因子对抗蚀剂成像、线宽变化、焦深的影响。在研究过程中,综合运用瑞利公式、⒆灾骺7⑷,对大数值孔径条件下的焦深极值现象,给出了详尽的解释。同时,在整个曝光场内,研究了由像差杓啤⒅圃臁⒆暗飨癫畹淖芎引起的像空问偏移。结果表明:如果仅仅控制波象差均方根,并不能得到较好的光刻性能。其次,针对不同的掩模结构,分别研究了传统掩模的掩模偏差相移掩模的透过率偏差、相移掩模的相位偏差以及工件台同步精度对线宽均匀性的影响。结果表明,如果掩模台、承片台的运动标准偏差小于,并且掩模偏差小于辔黄ú钚∮趓,透过最后,综合研究了皇焦庋低场⒛0濉⒐ぜㄏ低扯韵窨占淦啤产的主流光刻技术。本文通过研究皇焦庋低场⒀谀!⒐ぜㄏ低扯怨刻性能的影响,在国内首次系统地研究了皇焦饪碳际酢M保晒Φ刎且已经获得国家版权局的计算机软件著作权保护。首先,针对不同的曝光图形、在不同的照明方式及掩模类型下,研究了投影凳绾巫楹希攀强刂葡癫疃怨饪绦阅苡跋斓墓丶凇率偏差小于ィ呖肀浠靠梢钥刂圃ヒ阅凇线宽变化等光刻性能的影响。结果表明,在获取相同的光刻性能时,各分系统公差分配的协同设计组合有多种可选择的方案。我们开发的国内第一款光刻仿真软件在上述中发挥了重要的作用,包括下列主要模块:莸淖远淙胧涑明系统生成器。癫钍萆善鳌1韭畚慕ǘ云涔δ堋⑻氐慵湄⒎⒐獭软件的详细设计文档、包括软件中涉及到的核心算法以及该软件的初步测试方案等进行了详细论述。该软件不仅适用于目前常规光学光刻系统,。
入、输出模块可以按照光刻关键技术研究及用户的要求,自动、成批的进行数据生成器功能,可以在给定的波象差癙—迪拢远陕闾跫凳楹稀J迪至斯室涣鞴饪谭抡嫒砑不具备的功能。作为本文研究课题的展望,在理想曝光系统下,应用交替型相移掩模,以用于浸没式光刻和等下一代饪碳际醯难芯俊8萌砑氖葑远的输入、输出纾篋ù蟮奶岣吡斯ぷ餍省8萌砑恼彰飨统生成器,可以自动生成目前商业软件所不具备的新型照明系统。该软件的像差对传统饪萄诱怪诘愕目尚行砸约敖皇紸光刻延展至节点的可行性进行了初步探讨性的研究。关键词:皇焦饪獭⑷砑7ⅰ⑾乱淮饪
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第一章绪论国防建设和人民生活的基础性、战略性产业,成为推进信息化和全面实现小康社生产力的第一次大飞跃。工业革命是从蒸汽机的出现开始的,它是以金属加工技术为基础,以自然能源为动力,以使用金属机械为特征,机械化是这个时期的主题。现今,以硅为原料的电子组件产值,则超过了以钢为原料的产值,人类的历史因而正式进入了一个新的时代,也就是硅的时代,即信息时代。信息时代,我们无时无刻都在感受存储元件、微处理机、逻辑组件、光电元件等半导体组件给半导体产业的发展及其在国民经济中的地位自从有人类以来,已经过了上百万年的岁月。在经历了两次大的产业革命,即农业革命和工业革命之后,现已进入第三次产业革命。这是一次由信息技术的发展所推动的信息化产业革命,被誉为信息产业乃至信息化的基础和“心脏”的半导体技术及产业,越来越受到人们的瞩目和产业界的重视⋯。在荆腥税半导体比喻为工业社会的稻米,是近代社会一日不可或缺的。在国防上,惟有扎实的电子工业基础,才有强大的国防能力,年的波斯湾战争中,美国已经把新一代电子武器发挥得淋漓尽致。半导体技术乱钥涨暗墓婺:退俣扔τ糜诰济、科学、文化、军事以及生活的各个领域,半导体产业已成为事关国民经济、会的重要力量。社会的进步可以用当时人类使用的器物来代表,从远古的石器时代、到铜器,再进步到铁器时代。农业革命是由金属工具的广泛使用所推动的:炼铁技术的成熟和在这个基础上所形成的以使用铁制工具为特征的铁器时代,实现了人类社会社会带来的进步。年月日,美国贝尔实验室的巴丁与布莱登~⒚髁说谝桓鼍骞堋U獗曛咀虐氲继寮际醯牡诱一天起,半导体技术开始了其一日千里、日新月异的发展历程。在美幽,年英特尔公司推出了第一个商业化产品一半导体存储器,年,英特尔又推出了全球第一个微处理器。这一举措对整个半导体工业产生了深远的影向。微处
外发展电子器件的进程,提出了中国也要研究半导体科学,把半导体技术列为国研制