文档介绍:导师签名猨云烀学位论文作者签名:掷独创性声明学位论文版权使用授权书本人提交的学位论文是在导师指导下进行的研究工作及取得的研究成果。论文中引用他人已经发表或出版过的研究成果,文中已加了特别标注。对本研究及学位论文撰写曾做出贡献的老师、朋友、同仁在文中作了明确说明并表示衷心感谢。学位论文作者:签字日期:年月本学位论文作者完全了解西南大学有关保留、使用学位论文的规定,有权保留并向国家有关部门或机构送交论文的复印件和磁盘,允许论文被查阅和借阅。本人授权西南大学研究生部可以将学位论文的全部或部分内容编入有关数据库进行检索,可以采用影印、缩印或扫描等复制手段保存、汇编学位论文。C艿难宦畚脑诮饷芎笫视帽臼谌ㄊ椋韭畚模嚎诓槐C埽口保密期限至月止沙年§月/签字日期:三乡/年月日
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用,并采用扫描电子显微镜盗⒁、冶金、再到尖端科学技术和国防工业,都有重要的应用,但是在比较恶劣的条件下,如在含氧的水中,氧化性酸,以及含有坏壤胱拥娜芤褐校岱生强烈的腐蚀和损坏,由此带来了极大的经济损失和安全隐患。为了解决铜及其合金的腐蚀问题,国内外的学者们采用各种方法改善铜的表面工艺,以增加其耐腐蚀性能,除了不断地研制新型的合金材料,也开展了缓释剂的研究和开发工作。其中,自组装技术由于具有操作简单,膜的厚度可控,不受材料形貌限制等优点而成为研究热点。本文以纯铜为研究对象,应用分子自组装技术,通过电化学测试、电极表面形貌的表征以及分子模拟等技术,研究了不同缓蚀剂对铜在嗡峤橹手械幕蚀效果,并探讨了其缓蚀机理。主要研究工作如下:.二巯基...,缍宰樽膜,利用电化学方法,研究了自组装膜对铜在嗡峤橹手械幕菏醋技术,观察到该自组装膜成功组装到铜电极表面。对动电位极化曲线和电化学交流阻抗谱惺莘治觯峁允靖肈ざ酝哂辛己玫谋;ぷ饔茫蚀效率可达%。通过计算机进行分子模拟得到了分子在铜表面的吸附模型,对实验在分子水平上提供了理论支持,对设计更加高效的缓蚀剂具有指导作一辛