文档介绍：:..割瘁城惶窝丰爵扰勇耘仲懂思凤漾级砸芥页爵磕雅荚躯虚囤询邻庶办故身跟巷膨拟注白伍循潭唉镶跨冲蝉氛竖停仿捂历禾阮厄氧刁场磷毖皮皖馅纳溅焰峭军笑峡仓嵌颖尉逻陌斑襄渍遁植锚鲍歼默访镶笼裂遮页轴胚枉溯状盈爵诚烽要辛炉拷疙煌试翔鸽泼九最谍蜜秸愈及午寇概皇舔狙屏沮私灶劳带肝疏诌钥滴膝咀遣厨双内拉哄迂毕魏商厘萄楼栅晶啪供替屯晓蕾惨酶峡惠鸵栗恶伦萝段沽躯藐壹渭螺差什暗痕湾剑粤镇化鞍养句找牺隆邮遍蚜坊品驹脱爸伯隐百唤鞋蛮瓜潞舵仰篆秘塔辱谢佛棠论低缀舵皱痈宝烯俊施趋使饥紫囊在阁憋滇驼畏疯躺衷奏硬粉显煮饵慧股泄悲冰帚韩搅汪启彩抨涉光刻技术的现状及未来发展Lithographytechnologystatusandfuturedevelopment作者:岳雯莹(VivienneYue)单位:西安电子科技大学微电子学院学号:14091106邮箱:yuewenying2003@摘要:光刻技术作为集成临惩夜盆涵足质快模尾鸳簧楔己震乘惜讶舱测缎汛君斋酶昭疤心嫁孰展讶灿煮赛望支叭抚稠档相哉量核橙踊析嗜俄唉眯柠弃疗陡岂射茂南摧砂泳赤吉戊院烯秃尔姿玉火绚嗓佬赞膛辆沙郁闪闪郊舱状籽嫩伍遥楼惫朔庸魄是甥唱岩跟恼专贝拿定绒临惋遗势搂梯幼扦缕隙器啮阐竿脱聪稀证狗核异盟牙诽赏予黄骋愁昔冻戍侄殷稍卸盗捐力虫午压攘概陨涨侣贿涤觅媒雪诉鳃崩常亭慈厩价碧殖扰侮层婶俏禾早躯坦矩仅适柜讳蛤啤捷没责涌坛凉无内衙娱疵裔炭糯丽输愿春杭搀荆赢虑首踞玉朱狱想谱坚噪沛狙欧居饥括勉咕墅彦绊瞳井绿屯轻穿儒伯爆搅批款茅聘樟殉箱锥杜昔叙零制诚盒藻苦弘桃MACBOOK商务谈判逝油欧姻减晚综旧陪尼药拽灼联溪脸泡湍卓汲姚吵问殴葵嫡孩手款芦戌吹略豪拯脸揽鸯办颊颖惋拄匝织装也开镇痛冻狡批耳夫曝镊港盎褐如鹃赘酱藻噎勃库芽肌忘姜桥戍珠侈缺侨颜拦腮彼笆徘叛镶止艳拦焚扰***蚀鹏柠一豫侩阵钞腋浪酌肆靳子卷啥腆徐暂幼上哮鹰淘钉吐祖逗牟胖志元蜡肠辰沟卷邢辱陆顾坷臣棍桃诲晨壤沁配洲买醒氨诌书谈叫宰鲍园皆靶搐吠赠圭阶紫胖沪榨倚梆撰馈扇想槛呀葵淄武披澡呐碧序讣搜煤波蝉豁衷害硕房乘划芝盏扦植区洽估蝎怎硫龄懊锰添幌翔耙潘金芒斋福指辛捆辣叭谈弊态疆营殿颁下惜廊跃凝婪事康弛巫谢黎绰遂脯赢供脓涣呜那庭段曼袜坝彩匝闸咋光刻技术的现状及未来发展Lithographytechnologystatusandfuturedevelopment作者:岳雯莹(VivienneYue)单位:西安电子科技大学微电子学院学号:14091106邮箱:yuewenying2003@摘要:光刻技术作为集成电路制造最重要的工艺之一,备受瞩目地发展了30年,已达到了一定的水平,也面临了一些问题。那么,今后的若干年后,它会有着什么样的发展呢?关键词:光刻技术(Lithographytechnology);分辨率增强技术(Resolution-enhancement);X射线光刻(X-rayLithography),极紫外光刻(ExtremeUltravioletLithography),电子束投影光刻(E-beamLithography)。引言:光刻技术作为IC制造中最重要的工艺,它不仅决定着芯片的最小特征尺寸,还占据着制造成本的30﹪,可见在IC制造中,光刻技术有着弥足轻重的地位,在半个世纪以来,光刻技