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液相沉积法制备的二氧化硅薄膜及其钝化性能.pdf

上传人:tiros009 2014/3/15 文件大小:0 KB

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文档介绍

文档介绍:万方数据
液相沉积法制备的二氧化硅薄膜及其钝化性能刘邦武铀蓟#静,夏洋,李超波发光学报引言摘要:采用液相沉积法在硅基底上成功制备趸璞∧ぃ蒙璧缱酉晕⒕怠⒐獾缱幽芷缀蜕僮邮倜琗—,在生产和应用总量中占首位,并将向效率更高、成本更低的方向发展。晶体硅材料表面的质量对太阳能电池的转化效率起着至关重要的作用,这是因为晶硅材料的表面缺陷密度很高,存在大量的悬挂键、杂质和断键等,,因此需要对硅片进行表面钝化,以减少载流子复合。一般而言,通过采用热氧化,生长工艺可以对晶体硅表面进行有效钝化。抑制载流子在表面的复合。但是硅片中体少子寿命对高温工艺的敏感性非常高,:—测试仪等对二氧化硅薄膜的组织结构和钝化性能进行了研究,结果表明,液相生长的二氧化硅薄膜致密平整,含有少量的K兀欢怨杈哂薪虾玫募醴春投刍饔茫骄瓷渎视ソ档椭ィ砻娓春纤度由/档椭关键词:液相沉积:二氧化硅薄膜:钝化中图分类号:文献标识码:年月泄蒲г何⒌缱友芯克泄蒲г何⒌缱悠骷爰杉际踔氐闶笛槭遥本—琙—琀,,:甌.%/畆收稿日期:——:修订日期:—.基金项目:国家自然科学基金;中国科学院知识创新工程重大项目;国家高技术研究发展计划资助项目作者简介:刘邦武,男,山东巨野人,主要从事新能源材料与器件的研究。.痜,,簂;;:產甧,/,,.
万方数据
』:℃⒀≡裥陨ぁ⒊粱俾士臁⑽扌枵婵栈肪场⑸状态为—。配制溶液:量取适量的分析纯氟分进行分析,激发源为单色化,结合能用烷基碳或污染碳的图R合喑粱齋:薄膜的光电子能谱谱以上的热氧化工艺通常可导致体少子寿命的明显衰退。因此,对于高效的祷杼裟艿绯丶术而言,迫切需要一种新的低温表面钝化方法的幌帧5壤胱犹逶銮炕喑粱生长1∧ぃ哂械臀隆⒌统杀镜扔诺悖虼薙。钝化成为晶硅电池表面的主要钝化眨#疭缑婢Ц袷溲现兀涠刍阅懿蝗疭R合喑粱哂谐粱露鹊~备简单、薄膜质量好等优点¨‘。本文利用液相沉积方法,在硅片表面生长二氧化硅薄膜对其进行钝化,研究薄膜微观组织结构和钝化性能。实验所用衬底面积为、厚度为±、电阻率为腜型单晶硅片。硅片表面预处理:将硅片在液中浸泡,然后去离子水中浸泡璞砻硅酸:溶液,其浓度为%~%,然后加入高纯硅酸。粉末.%寥液饱和,判断溶液饱和的标志是往里加人过氧化氢时,溶液会显示橙黄色。将上述溶液磁力搅拌芤何露鹊鹘谖妫言ご砗玫墓片放人溶液中进行液相沉积二氧化硅薄膜。利用场发射扫描电镜对薄膜的微观形貌进行观察;采用德国公司的卜透盗⒁逗焱夤馄滓舛⊿,薄膜的官能团结构;利用公司的型湎吖獾缱幽芷滓嵌员∧さ某鰔射线,功率为治鍪钡幕≌⒉ü獾绲妓ゼВ甈馐裕肧公司生产的型“仪对样品进行少子寿命测量,测量时采用波长为、脉冲宽度为的激光激发光生载流子,每个脉冲产生的载流子数为啊薄膜的微观组织沉积后薄膜的微观形貌如图荆梢钥到液相沉积获得的二氧化硅薄膜比较致密平整,均匀地覆盖在硅表面。嫖露认驴焖偃退火后薄膜的表面形貌见图,经过退火处理后二氧化硅薄膜表面变得更平整、更致密。薄膜的成分结构图,可以看到液相沉积生长的薄膜中主要含有、第期刘邦武,等:液相沉积法制备的二氧化硅薄膜及其钝化性能液相沉积罕∧さ纳璧缇嫡掌沉积态薄膜表面;粱∧そ缑