文档介绍：超纯水设备
半导体材料的超纯水设备的技术指导与工艺流程等资料下载
——该技术指导资料由莱特莱德拉萨超纯水设备厂家提供
超纯水设备是可以完全去除水中的导电介质,以可以将水中的有机物质、不溶解的胶体物质和其化杂质去除的高性能水处理设备。在半导体材料、蓄电池、线路板等电子行业应用的非常广泛。本文将主要介绍半导体超纯水设备工艺流程、技术优势与维护清洗。
超纯水设备介绍
超纯水设备的工艺流程图
半导体超纯水设备由反渗透设备与EDI设备相结合,是一种环保、经济、发展潜力巨大的最新超纯水制备工艺。
工艺流程为:原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→中间水箱→反渗透设备→电去离子(EDI)→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点
工艺流程介绍
我公司的半导体超纯水设备符合国家标准水质要求,能满足客户的不同需求。
1、介质过滤器:由优质不锈钢材料制作而成,可去除源水中的悬浮物。设备设有气体冲刷功能,能最大限度地清除介质上及床层中的污垢,提高出水水质和延长工作周期。
2、活性碳过滤器:由优质不锈钢材料制作而成,可以去除水中的游离余氯、除臭、除油、去色、吸附有机物杂质,保证反渗透膜的进水水质。
半导体超纯水设备各系统技术优势
3、RO主机:采用先进的反渗透技术,利用压力差原理去除水中的盐类,设备的脱盐率可达到99%左右。
4、水质:水质符合美国ASTM标准,电子部超纯水水质标准(18MΩ*cm,15MΩ*cm,2MΩ**cm四级)。
5、材质:主要有不锈钢、炭钢和有机玻璃钢。
6、流量(m3/h):-500。
半导体超纯水设备各系统技术优势
半导体超纯水设备由于生产的波动,不可避免地经常要短期或长期停运,所以必须采取保护措施,防止反渗透膜性能下降。
1、反渗透设备停运保护
反渗透经常停运,是因为生产中产生波动,波动期间必须采取保护措施,波动中不适当地处理会导致膜性能下降。
(1)停运15d以下的系统是短期保存,保护反渗透设备