文档介绍：—XXXX硅中***离子含量的测定离子色谱法Testmethodforchloridecontentofsilicon—Ionchromatographymethod(送审稿)本稿完成日期:2018年4月XXXX-XX-XX发布XXXX-XX-XX实施前言本标准按照GB/-2009给出的规则起草。本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC203)与全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会(SAC/TC203/SC2)共同提出并归口。本标准起草单位:江苏中能硅业科技发展有限公司本标准主要起草人:硅中***离子含量的测定离子色谱法范围本标准规定了硅中***离子含量的测定方法。本标准适用于测定不同的棒状、块状、颗粒状和片状的硅中***离子的含量。样品颗粒几何尺寸在200μm~3000μm。常规分析方法的检测限为1μg/g~最大固浓度。规范性引用文件下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件,仅注日期的版本适用于本文件。凡是不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于本文件。GB/(正确度与精密度)第2部分:确定标准测量方法重复性与再现性的基本方法GB/T6682分析实验室用水规格和试验方法GB/T6679固体化工产品采样通则SEMIPV74Testmethodforthemeasurementofchlorineinsiliconbyionchromatography方法提要将样品放置高温管式炉中进行熔化,样品融化后其中的***元素以***化物的形式释放出来,使用两个装有高纯水的鼓泡吸收瓶进行吸收后,再用离子色谱仪,测定吸收液中的***离子含量。试剂和材料高纯水:除非另有说明,否则本测试方法中“水”即为符合规范GB/T6682的试剂水。高纯氩气:体积分数≥%。***离子标准溶液(CRM):浓度为1000mg/L。仪器和设备离子色谱仪:配备阴离子色谱柱。电子天平:。移液管:2mL、10mL、20mL。超声波设备。高温管式炉:最高工作温度不低于1500℃。鼓泡吸收瓶:10mL。样品容器、样品管:材质为刚玉(Al2O3)。分析步骤样品采集按照GB/T6679《固体化工产品采样通则》进行采样,并缩分出待测试样,以取得具有代表性的样品。在取样过程中,应该关注和避免污染的产生。方法空白使用相同的方法制备过程,但不加入样本或测试样品,而制得的水溶液,用于去除背景光谱中来自实验室环境、试剂或实验室器皿的痕量***离子污染。,,放入样品容器(需提前煅烧)中,将样品容器放入高温管式炉中。准备两个吸收瓶并各自装有10mL的超纯水,串联,并连接到高温管式炉的排气口。调整氩气的流量达到200~300mL/min,氩气通过高温管式炉进入两个串联的吸收瓶。高温管式炉的温度从室温加热到1500℃,在1500℃保持20分钟,然后冷却到室温。使用离子色谱仪对吸收瓶中的溶液进行***离子含量的测定。校准曲线的配置使用***离子标准溶液(),在洁净的100mL容量瓶中,分别配制0mg/L、、、、、,使用离